| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-27页 |
| ·低K材料的研究背景 | 第9-11页 |
| ·低K材料简介 | 第11-17页 |
| ·电介质材料 | 第11-12页 |
| ·低介电常数的获得 | 第12-15页 |
| ·低K材料的电学特性 | 第15页 |
| ·低K材料的机械性能 | 第15-17页 |
| ·低K材料的研究现状 | 第17-24页 |
| ·有机聚合物材料 | 第17-19页 |
| ·无机介质材料 | 第19页 |
| ·掺氟低k材料 | 第19-20页 |
| ·纳米多孔介质材料 | 第20-24页 |
| ·本论文的研究动机和内容 | 第24-25页 |
| 参考文献 | 第25-27页 |
| 第二章 纳米多孔SiO_2薄膜的制备、表征及性能测试 | 第27-41页 |
| ·低K薄膜的常用制备技术 | 第27-30页 |
| ·气相沉积法 | 第27-28页 |
| ·液相外延和固相外延法 | 第28页 |
| ·溶胶-凝胶(sol-gel)法 | 第28-30页 |
| ·纳米多孔SiO_2薄膜的制备 | 第30-32页 |
| ·盐酸做催化剂制备纳米多孔二氧化硅 | 第30页 |
| ·HF做催化剂制备掺氟纳米多孔二氧化硅 | 第30页 |
| ·制备条件对薄膜性能的影响 | 第30-32页 |
| ·薄膜的微结构表征及性能测试 | 第32-39页 |
| ·薄膜的微结构表征 | 第32-33页 |
| ·比表面积和孔径分布的确定 | 第33-34页 |
| ·薄膜的FTIR分析 | 第34页 |
| ·薄膜的热稳定性分析 | 第34-35页 |
| ·薄膜的电性能测试 | 第35-36页 |
| ·薄膜的机械特性测试 | 第36-39页 |
| 参考文献: | 第39-41页 |
| 第三章 纳米多孔SiO_2薄膜的微结构及电性能研究 | 第41-59页 |
| ·纳米多孔SiO_2薄膜的表征及电性能研究 | 第41-49页 |
| ·纳米多孔SiO_2薄膜的形貌表征 | 第41-43页 |
| ·多孔SiO_2薄膜的FTIR分析 | 第43-45页 |
| ·薄膜的热稳定性分析 | 第45-46页 |
| ·薄膜的电学特性 | 第46-49页 |
| ·掺F纳米多孔二氧化硅薄膜的微结构及电性能 | 第49-58页 |
| ·多孔SiOF薄膜的形貌观察 | 第49-51页 |
| ·N_2吸附/脱附分析 | 第51-52页 |
| ·SiOF薄膜的FTIR分析 | 第52-54页 |
| ·SiOF薄膜的C-V特性 | 第54-55页 |
| ·SiOF薄膜的J-E特性 | 第55-58页 |
| 参考文献: | 第58-59页 |
| 第四章 多孔SiO_2薄膜的机械性能研究 | 第59-65页 |
| 参考文献: | 第64-65页 |
| 第五章 主要结论与展望 | 第65-68页 |
| ·本论文的主要结论 | 第65-66页 |
| ·低K材料研究展望 | 第66-68页 |
| 致谢 | 第68页 |