| 摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACT | 第7-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-28页 |
| ·选题意义 | 第12-13页 |
| ·TiO_2薄膜的晶体结构和性质 | 第13-15页 |
| ·TiO_2薄膜的应用 | 第15-17页 |
| ·TiO_2薄膜在光电领域的应用 | 第15页 |
| ·在光催化领域的应用 | 第15页 |
| ·在太阳能电池与水分解方面的应用 | 第15-16页 |
| ·污水处理 | 第16页 |
| ·空气净化 | 第16页 |
| ·防雾及自清洁涂层 | 第16-17页 |
| ·抗菌材料 | 第17页 |
| ·在传感器方面的应用 | 第17页 |
| ·其他用途 | 第17页 |
| ·TiO_2薄膜的制备技术进展 | 第17-26页 |
| ·化学气相沉积法(CVD) | 第17-18页 |
| ·溶胶一凝胶法(Sol一Gel) | 第18-19页 |
| ·脉冲激光沉积(PLD) | 第19-20页 |
| ·液相沉积法 | 第20-21页 |
| ·离子自组装技术(ISAM) | 第21-22页 |
| ·溅射法 | 第22-26页 |
| ·柔性衬底上制备的TiO_2薄膜的研究现状 | 第26-27页 |
| ·本论文主要研究内容 | 第27-28页 |
| 第二章 TiO_2及CeO_2/TiO_2复合靶材的制备 | 第28-35页 |
| ·TiO_2/CeO_2复合粉体的预处理 | 第28-30页 |
| ·实验 | 第28-29页 |
| ·实验结果 | 第29-30页 |
| ·TiO_2系靶材的制备 | 第30-31页 |
| ·实验试剂和实验设备 | 第30页 |
| ·TiO_2/CeO2复合靶材制备工艺 | 第30-31页 |
| ·纯TiO_2靶材制备工艺 | 第31页 |
| ·靶材的性能测试与分析 | 第31-34页 |
| ·靶材物相分析 | 第31-32页 |
| ·靶材致密度分析 | 第32-33页 |
| ·靶材表面微观均匀性分析 | 第33-34页 |
| ·本章小结 | 第34-35页 |
| 第三章 射频磁控溅射法制备CeO_2/TiO_2复合薄膜 | 第35-61页 |
| ·衬底的选择与预处理 | 第35-37页 |
| ·衬底的选取 | 第36页 |
| ·衬底的表面处理 | 第36-37页 |
| ·磁控溅射制备纯TiO_2薄膜和CeO_2/TiO_2复合薄膜 | 第37-55页 |
| ·基底和靶材溅射清洗 | 第37-38页 |
| ·不同条件下CeO_2/TiO_2复合薄膜的制备 | 第38-54页 |
| ·TiO_2薄膜的制备 | 第54-55页 |
| ·薄膜的后处理工艺 | 第55-57页 |
| ·薄膜的化学组成EDS分析 | 第57-60页 |
| ·本章小结 | 第60-61页 |
| 第四章 薄膜结合力和界面结合机制 | 第61-67页 |
| ·薄膜结合力测试结果 | 第62-63页 |
| ·薄膜的界面结合分析 | 第63-66页 |
| ·薄膜与基体的界面形貌 | 第63页 |
| ·复合薄膜的界面结合分析 | 第63-66页 |
| ·本章小结 | 第66-67页 |
| 第五章 复合薄膜的光学性能研究 | 第67-79页 |
| ·引言 | 第67页 |
| ·薄膜透射率的分析 | 第67-73页 |
| ·不同溅射功率制备薄膜的透射谱分析 | 第68-69页 |
| ·不同掺杂比的薄膜透射谱分析 | 第69-70页 |
| ·不同溅射压强下制备薄膜的透射谱分析 | 第70-71页 |
| ·不同靶—基距下制备薄膜的透射谱分析 | 第71-72页 |
| ·不同溅射时间制备的薄膜透射谱分析 | 第72-73页 |
| ·不同退火处理时间下薄膜的透射谱分析 | 第73页 |
| ·不同条件制备薄膜的光学能隙 | 第73-78页 |
| ·不同溅射功率下薄膜的禁带宽度 | 第74页 |
| ·不同CeO_2和TiO_2掺杂比下薄膜的禁带宽度 | 第74-75页 |
| ·不同溅射时间下薄膜的禁带宽度 | 第75-76页 |
| ·不同溅射压强下薄膜的禁带宽度 | 第76页 |
| ·不同热处理时间下薄膜的禁带宽度 | 第76-77页 |
| ·不同靶基距下薄膜的禁带宽度 | 第77-78页 |
| ·本章小节 | 第78-79页 |
| 第六章 主要结论 | 第79-81页 |
| 第七章 展望 | 第81-83页 |
| ·TiO_2薄膜的应用前景 | 第81页 |
| ·本课题的后续研究工作 | 第81-83页 |
| 参考文献 | 第83-88页 |
| 致谢 | 第88-89页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第89页 |
