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基于FBG光纤光栅薄膜温度传感器的研究

摘要第1-8页
Abstract第8-9页
插图索引第9-10页
附表索引第10-11页
第1章 绪论第11-24页
   ·光纤光栅传感技术第11-15页
   ·薄膜温度传感器的应用第15-18页
   ·光学薄膜的制备第18-21页
   ·课题研究的意义第21-22页
   ·论文内容及研究技术路线第22-24页
第2章 多层高反射膜测温的理论基础第24-32页
   ·FBG光纤光栅的传感机理及多层膜理论第24-28页
     ·Bragg光栅(FBG)及其传感原理第24-26页
     ·光纤 Bragg光栅的理论模型第26-28页
   ·光学薄膜理论第28-32页
     ·麦克斯韦方程第28-30页
     ·多层介质高反射膜第30-32页
第3章 膜系的设计第32-41页
   ·前言第32页
   ·矢量法第32-34页
   ·光学材料的基本要求第34-35页
   ·镀膜材料的选择第35-36页
   ·TFcalc软件的模拟第36-41页
     ·薄膜自动设计程序第36-37页
     ·TFcalc的模拟第37-41页
第4章 双室多功能磁控溅射仪第41-49页
   ·气体放电现象与等离子体第41-44页
     ·气体放电现象描述第41-43页
     ·辉光放电现象第43-44页
   ·溅射沉积装置第44-46页
     ·直流(DC)溅射第44-45页
     ·射频(RF)溅射第45页
     ·磁控溅射第45-46页
     ·反应溅射第46页
   ·多功能磁控溅射镀膜设备第46-49页
     ·设备的主要结构第47-48页
     ·设备的主要技术参数第48-49页
第5章 直流反应溅射制备 TiO_2薄膜第49-53页
   ·前言第49页
   ·TiO_2薄膜的制备第49-50页
   ·薄膜样品性能的检测第50页
   ·溅射时间的影响第50-51页
   ·溅射功率的影响第51-53页
第6章 射频磁控共溅射制备 TiO_2/SiO_2薄膜第53-56页
   ·前言第53页
   ·TiO_2/SiO_2薄膜的制备第53-54页
   ·TiO_2/SiO_2薄膜的光学性质第54-55页
   ·TiO_2/SiO_2薄膜的折射率调制曲线第55-56页
第7章 磁控溅射工艺对 TiO_2光学性质的影响第56-66页
   ·靶基距对 TiO_2薄膜光学性质的影响第56-57页
   ·氧氩比对 TiO_2薄膜结构的影响第57页
   ·溅射气压的影响第57-58页
     ·工作气压对沉积速率的影响第57-58页
     ·溅射气压对 TiO_2薄膜结构的影响第58页
   ·沉积温度的影响第58-62页
     ·沉积温度对 TiO_2光学性质的影响第58-59页
     ·沉积温度对 TiO_2表面形貌的影响第59-62页
   ·热处理温度的影响第62-63页
     ·热处理温度对 TiO_2光学性质的影响第62-63页
     ·热处理温度对 TiO_2表面形貌的影响第63页
   ·退火气氛的影响第63-66页
     ·退火气氛对 TiO_2光学性质的影响第63-64页
     ·退火气氛对 TiO_2表面形貌的影响第64-66页
第8章 TiO_2/SiO_2滤光片的温度传感器第66-72页
   ·Haruo Takashashi模型第66-67页
   ·实验装置第67页
   ·TiO_2/SiO_2滤光片的温度特性第67-69页
     ·TiO_2/SiO_2滤光片的制备第67页
     ·TiO_2/SiO_2滤光片反射峰强度的温度特性第67-68页
     ·TiO_2/SiO_2滤光片反射峰波长的温度特性第68-69页
   ·计算分析第69-71页
     ·Haruo Takashashi模型的计算分析第69-70页
     ·FBG耦合模理论的计算分析第70-71页
   ·TiO_2/SiO_2滤光片的温度标定曲线第71-72页
总结第72-74页
参考文献第74-80页
致谢第80-81页
附录A 攻读学位期间所发表的学术论文目录第81-82页
附录B 攻读学位期间所获专利数目录第82页

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