摘要 | 第1-8页 |
Abstract | 第8-9页 |
插图索引 | 第9-10页 |
附表索引 | 第10-11页 |
第1章 绪论 | 第11-24页 |
·光纤光栅传感技术 | 第11-15页 |
·薄膜温度传感器的应用 | 第15-18页 |
·光学薄膜的制备 | 第18-21页 |
·课题研究的意义 | 第21-22页 |
·论文内容及研究技术路线 | 第22-24页 |
第2章 多层高反射膜测温的理论基础 | 第24-32页 |
·FBG光纤光栅的传感机理及多层膜理论 | 第24-28页 |
·Bragg光栅(FBG)及其传感原理 | 第24-26页 |
·光纤 Bragg光栅的理论模型 | 第26-28页 |
·光学薄膜理论 | 第28-32页 |
·麦克斯韦方程 | 第28-30页 |
·多层介质高反射膜 | 第30-32页 |
第3章 膜系的设计 | 第32-41页 |
·前言 | 第32页 |
·矢量法 | 第32-34页 |
·光学材料的基本要求 | 第34-35页 |
·镀膜材料的选择 | 第35-36页 |
·TFcalc软件的模拟 | 第36-41页 |
·薄膜自动设计程序 | 第36-37页 |
·TFcalc的模拟 | 第37-41页 |
第4章 双室多功能磁控溅射仪 | 第41-49页 |
·气体放电现象与等离子体 | 第41-44页 |
·气体放电现象描述 | 第41-43页 |
·辉光放电现象 | 第43-44页 |
·溅射沉积装置 | 第44-46页 |
·直流(DC)溅射 | 第44-45页 |
·射频(RF)溅射 | 第45页 |
·磁控溅射 | 第45-46页 |
·反应溅射 | 第46页 |
·多功能磁控溅射镀膜设备 | 第46-49页 |
·设备的主要结构 | 第47-48页 |
·设备的主要技术参数 | 第48-49页 |
第5章 直流反应溅射制备 TiO_2薄膜 | 第49-53页 |
·前言 | 第49页 |
·TiO_2薄膜的制备 | 第49-50页 |
·薄膜样品性能的检测 | 第50页 |
·溅射时间的影响 | 第50-51页 |
·溅射功率的影响 | 第51-53页 |
第6章 射频磁控共溅射制备 TiO_2/SiO_2薄膜 | 第53-56页 |
·前言 | 第53页 |
·TiO_2/SiO_2薄膜的制备 | 第53-54页 |
·TiO_2/SiO_2薄膜的光学性质 | 第54-55页 |
·TiO_2/SiO_2薄膜的折射率调制曲线 | 第55-56页 |
第7章 磁控溅射工艺对 TiO_2光学性质的影响 | 第56-66页 |
·靶基距对 TiO_2薄膜光学性质的影响 | 第56-57页 |
·氧氩比对 TiO_2薄膜结构的影响 | 第57页 |
·溅射气压的影响 | 第57-58页 |
·工作气压对沉积速率的影响 | 第57-58页 |
·溅射气压对 TiO_2薄膜结构的影响 | 第58页 |
·沉积温度的影响 | 第58-62页 |
·沉积温度对 TiO_2光学性质的影响 | 第58-59页 |
·沉积温度对 TiO_2表面形貌的影响 | 第59-62页 |
·热处理温度的影响 | 第62-63页 |
·热处理温度对 TiO_2光学性质的影响 | 第62-63页 |
·热处理温度对 TiO_2表面形貌的影响 | 第63页 |
·退火气氛的影响 | 第63-66页 |
·退火气氛对 TiO_2光学性质的影响 | 第63-64页 |
·退火气氛对 TiO_2表面形貌的影响 | 第64-66页 |
第8章 TiO_2/SiO_2滤光片的温度传感器 | 第66-72页 |
·Haruo Takashashi模型 | 第66-67页 |
·实验装置 | 第67页 |
·TiO_2/SiO_2滤光片的温度特性 | 第67-69页 |
·TiO_2/SiO_2滤光片的制备 | 第67页 |
·TiO_2/SiO_2滤光片反射峰强度的温度特性 | 第67-68页 |
·TiO_2/SiO_2滤光片反射峰波长的温度特性 | 第68-69页 |
·计算分析 | 第69-71页 |
·Haruo Takashashi模型的计算分析 | 第69-70页 |
·FBG耦合模理论的计算分析 | 第70-71页 |
·TiO_2/SiO_2滤光片的温度标定曲线 | 第71-72页 |
总结 | 第72-74页 |
参考文献 | 第74-80页 |
致谢 | 第80-81页 |
附录A 攻读学位期间所发表的学术论文目录 | 第81-82页 |
附录B 攻读学位期间所获专利数目录 | 第82页 |