| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-8页 |
| 1 绪论 | 第8-17页 |
| ·引言 | 第8页 |
| ·碳膜的发展和应用 | 第8-10页 |
| ·耐磨减摩镀层的发展和应用 | 第10-11页 |
| ·磁控溅射镀膜技术简介 | 第11-15页 |
| ·磁控溅射技术的发展和现状 | 第11-13页 |
| ·磁控溅射镀膜的基本原理 | 第13页 |
| ·闭合场非平衡磁控溅射镀膜技术 | 第13-15页 |
| ·课题的研究目的、意义及内容 | 第15-17页 |
| ·课题目的和意义 | 第15-16页 |
| ·研究思路 | 第16页 |
| ·课题研究内容 | 第16-17页 |
| 2 实验设备和实验方法 | 第17-25页 |
| ·实验材料及试样前处理 | 第17页 |
| ·试样基材材料 | 第17页 |
| ·试样前处理 | 第17页 |
| ·制备 C/Cr 复合镀层 | 第17-19页 |
| ·镀膜设备 | 第17-18页 |
| ·镀膜中基材试样的放置 | 第18-19页 |
| ·镀膜过程 | 第19页 |
| ·镀层的检测 | 第19-23页 |
| ·检测试样的准备 | 第19-20页 |
| ·镀层性能检测 | 第20-22页 |
| ·镀层组织结构的检测 | 第22-23页 |
| ·UDP450 真空室内磁场分布的检测 | 第23-25页 |
| ·测量坐标的建立 | 第23-24页 |
| ·测量过程 | 第24-25页 |
| 3 靶基相对位置对 C/Cr 复合镀层性能的影响 | 第25-41页 |
| ·靶基相对位置对镀层厚度的影响 | 第25-26页 |
| ·靶基相对位置对镀层硬度的影响 | 第26-29页 |
| ·靶基相对位置对镀层结合力的影响 | 第29-32页 |
| ·靶基相对位置对镀层耐磨减摩性能的影响 | 第32-41页 |
| ·靶基相对位置对镀层减摩性能影响 | 第32-35页 |
| ·靶基相对位置对镀层耐磨性能的影响 | 第35-41页 |
| 4 靶基相对位置对 C/Cr 复合镀层组织结构的影响 | 第41-48页 |
| ·靶基相对位置对镀层组织的影响 | 第41-43页 |
| ·靶基相对位置对镀层晶体及相结构的影响 | 第43-44页 |
| ·靶基相对位置对镀层键价结构的影响 | 第44-48页 |
| 5 UDP450 设备腔内的磁场分布 | 第48-50页 |
| 6 靶基相对位置影响镀层性能及组织结构的机理 | 第50-53页 |
| 7 结论 | 第53-54页 |
| 致谢 | 第54-55页 |
| 参考文献 | 第55-59页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第59页 |