| 第一章 绪论 | 第1-10页 |
| 第二章 文献综述 | 第10-27页 |
| 一. 硅中氧、碳、氮的来源及其浓度测定 | 第10-12页 |
| 二. 硅中碳、氮、氧的基本性质 | 第12-15页 |
| 三. 氧在热处理中的行为 | 第15-27页 |
| 1 热施主 | 第15-19页 |
| (1) 热施主的性质 | 第15-16页 |
| (2) 热施主模型 | 第16-19页 |
| 2 新施主 | 第19-21页 |
| (1) 新施主的性质 | 第19-20页 |
| (2) 新施主模型 | 第20-21页 |
| 3 氧沉淀及诱生缺陷 | 第21-23页 |
| 4 IG吸除效应 | 第23-24页 |
| 5 微氮CZSi的氧沉淀及其内吸杂效果 | 第24-27页 |
| 第三章 硅中的氮氧复合物和碳氧复合物 | 第27-49页 |
| 3-1 硅中的氮氧复合物及其红外吸收 | 第27-32页 |
| 3-2 硅中的氮对-硅四面体、碳-硅四面体的简振模式 | 第32-35页 |
| 3-3 碳氧复合物与氮氧复合物的微观结构 | 第35-39页 |
| 3-4 硅中碳、氮、氧相互作用的研究 | 第39-49页 |
| 第四章 硅中的氮氧复合物及其施主行为 | 第49-61页 |
| 4-1 硅中的氮关施主 | 第49-51页 |
| 4-2 氮关施主的形成和消除 | 第51-57页 |
| 4-3 氮关施主的微观结构 | 第57-61页 |
| 第五章 硅中新施主的研究 | 第61-76页 |
| 5-1 硅中的氮关施主和新施主 | 第61-71页 |
| 5-2 氮原子对新施主的影响 | 第71-73页 |
| 5-3 新施主的微观结构模型 | 第73-76页 |
| 第六章 碳和氮原子对热施主的影响 | 第76-87页 |
| 6-1 碳和氮原子对热施主的影响 | 第76-82页 |
| 6-2 热施主的微观结构 | 第82-87页 |
| 第七章 碳和氮原子对氧沉淀的影响 | 第87-105页 |
| 7-1 碳和氮原子对氧沉淀的促进作用 | 第87-88页 |
| 7-2 碳原子在氧沉淀中的作用 | 第88-95页 |
| 7-3 氮原子在氧沉淀中的作用 | 第95-101页 |
| 7-4 普通CZSi的氧沉淀 | 第101-105页 |
| 第八章 硅中的碳、氮、氧及其相互作用 | 第105-115页 |
| 8-1 硅中的碳、氮、氧的相互作用 | 第105-106页 |
| 8-2 硅中的硅氧复合体及其行为 | 第106-109页 |
| 8-3 硅中的氮氧复合物及其行为 | 第109-112页 |
| 8-4 硅中的碳氧复合物及其行为 | 第112-115页 |
| 第九章 结论 | 第115-117页 |
| 参考文献 | 第117-123页 |