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集成电路后端设计中半导体芯片的成品率优化

目录第1-4页
摘要第4-5页
Abstract第5-6页
引言第6-9页
第一章 芯片成品率的基本知识第9-17页
   ·芯片成品率的定义及影响芯片成品率的因素第9-10页
   ·现有提高芯片成品率的方法和目的第10-11页
   ·常用成品率设计算法第11-14页
   ·设计方法第14-15页
   ·研究重点第15-17页
第二章 相关的术语和概念第17-23页
   ·设计过程中芯片成品率的相关术语介绍第17-20页
   ·基本概念介绍第20-23页
第三章 成品率优化设计流程第23-36页
   ·简介第23-24页
   ·内连线栓塞的优化(Via optimization)第24-27页
   ·关键面积的分析和减少第27-30页
   ·金属填充(Metal fill insertion)第30-33页
   ·减少CMP对成品率的影响第33-34页
   ·减少光刻对成品率的影响第34-36页
第四章 成品率优化流程及验证方法第36-48页
   ·设计综合(Synthesis)第37页
   ·读入Verilog文件(Read Verilog)第37-38页
   ·版图规划(Floorplan)第38-39页
   ·布局(Placement)第39页
   ·时钟树综合(Clock Tree Synthysis)第39-41页
   ·布线(Routing)第41-42页
   ·成品率优化(Yield Optimization)第42-43页
   ·芯片修整(Chip Finishing)第43-44页
   ·时序优化第44-48页
第五章 多组数据物理设计结果分析第48-63页
   ·对设计后的产品的物理验证结果:第48-58页
   ·进行优化结果的比较与分析第58-60页
   ·最新版本与1.0版本功耗优化结果的比较与分析第60-63页
参考文献第63-66页
后记第66-67页

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