| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-17页 |
| ·MOCVD 设备介绍 | 第7-8页 |
| ·MOCVD 系统的组成及特点 | 第8-14页 |
| ·MOCVD 技术简介 | 第8-9页 |
| ·MOCVD 系统的基本组成 | 第9-12页 |
| ·目前国内外的 MOCVD 设备 | 第12-14页 |
| ·本论文研究内容及安排 | 第14-17页 |
| 第二章 MOCVD设备反应室的结构设计 | 第17-35页 |
| ·MOCVD 设备整机的体系结构 | 第17-23页 |
| ·MOCVD 设备整机的机械系统框图 | 第18-20页 |
| ·MOCVD 设备整机的控制系统框图 | 第20-21页 |
| ·MOCVD 设备整机的气路图 | 第21-23页 |
| ·反应室结构研究 | 第23-34页 |
| ·目前常见的几种反应室结构 | 第23-26页 |
| ·西电MOCVD 反应室结构 | 第26-34页 |
| ·本章小结 | 第34-35页 |
| 第三章 MOCVD设备反应室的温度场和流场分析 | 第35-49页 |
| ·西电MOCVD 设备反应室基于有限元分析的建模 | 第35-40页 |
| ·MOCVD 反应室和石墨基座的几何结构 | 第35-37页 |
| ·MOCVD 反应室有限元分析的基本原理和分析模型 | 第37-40页 |
| ·MOCVD 反应室的温度场及流场分析 | 第40-47页 |
| ·MOCVD 反应室的温度场分析 | 第40-44页 |
| ·MOCVD 反应室的流场分析 | 第44-47页 |
| ·本章小结 | 第47-49页 |
| 第四章 结论 | 第49-51页 |
| 参考文献 | 第51-53页 |
| 致谢 | 第53-55页 |
| 研究成果 | 第55-56页 |