| 中文摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-11页 |
| 第一章 引言 | 第11-34页 |
| ·ZnO的结构与性能 | 第11-25页 |
| ·ZnO的晶格结构 | 第11-13页 |
| ·ZnO的能带结构及其固有缺陷 | 第13-15页 |
| ·ZnO薄膜的光学特性 | 第15-16页 |
| ·ZnO薄膜的光致发光特性 | 第16-17页 |
| ·ZnO薄膜的电学特性 | 第17-20页 |
| ·ZnO薄膜的n型掺杂 | 第20-22页 |
| ·ZnO薄膜的p型掺杂 | 第22-24页 |
| ·ZnO材料与自旋电子学 | 第24-25页 |
| ·ZnO薄膜的应用 | 第25-27页 |
| ·ZnO薄膜用作透明导电氧化物薄膜 | 第25页 |
| ·ZnO薄膜用作透明电极 | 第25-26页 |
| ·ZnO薄膜用作吸波材料 | 第26-27页 |
| ·场致发射显示器(FED) | 第27页 |
| ·ZnO材料研究面临的问题 | 第27-28页 |
| ·本文研究的思路和主要内容 | 第28-30页 |
| 参考文献 | 第30-34页 |
| 第二章 ZnO薄膜的制备和表征 | 第34-48页 |
| ·磁控溅射技术 | 第34-38页 |
| ·磁控溅射技术 | 第34-35页 |
| ·磁控溅射实验装置 | 第35-36页 |
| ·设备的主要技术参数 | 第36-38页 |
| ·ZnO薄膜的其它制备技术 | 第38-43页 |
| ·原子层外延法(ALE) | 第38页 |
| ·分子束外延技术(MBE) | 第38-39页 |
| ·等离子体增强化学气相沉积技术(PECVD) | 第39页 |
| ·固态源化学气相沉积(SSCVD) | 第39-40页 |
| ·金属有机化合物化学气相沉积(MOCVD) | 第40-41页 |
| ·激光脉冲沉积(PLD)法 | 第41-42页 |
| ·溶胶-凝胶法(Sol-Gel) | 第42页 |
| ·喷雾热解法(Spray Pyrolysis) | 第42-43页 |
| ·基片的清洗 | 第43-44页 |
| ·样品沉积参数 | 第44-45页 |
| ·薄膜的表征 | 第45-47页 |
| ·膜厚的测量[1] | 第45页 |
| ·X射线衍射分析(XRD)[2] | 第45页 |
| ·透射电子显微镜(TEM) | 第45页 |
| ·扫描电子显微镜分析(SEM) | 第45页 |
| ·X射线光电子谱(XPS)[4] | 第45-46页 |
| ·傅立叶变换红外光谱分析(FTIR)[6,7] | 第46页 |
| ·荧光光谱仪 | 第46页 |
| ·紫外透射和吸收谱 | 第46页 |
| ·Raman光谱分析 | 第46-47页 |
| 参考文献 | 第47-48页 |
| 第三章 沉积气压对不同气氛的ZnO薄膜的结构与光学性能影响 | 第48-62页 |
| ·ZnO薄膜的结构 | 第49-57页 |
| ·薄膜的XRD分析 | 第49-53页 |
| ·ZnO薄膜的形貌 | 第53-57页 |
| ·ZnO薄膜的光学性质 | 第57-60页 |
| ·ZnO薄膜的透射谱分析 | 第57-59页 |
| ·ZnO薄膜的PL谱分析 | 第59-60页 |
| ·本章小结 | 第60-61页 |
| 参考文献 | 第61-62页 |
| 第四章 沉积气压对Zn_(0.975)Cu_(0.025)O结构的影响 | 第62-70页 |
| ·25%N_2气氛下Zn_(0.975)Cu_(0.025)O薄膜的结构 | 第62-65页 |
| ·25%N_2气氛下Zn_(0.975)Cu_(0.025)O薄膜的形貌 | 第65-68页 |
| ·本章小结 | 第68-69页 |
| 参考文献 | 第69-70页 |
| 第五章 讨论与结论 | 第70-72页 |
| 硕士期间发表论文 | 第72-73页 |
| 致谢 | 第73-74页 |
| 详细摘要 | 第74-76页 |
