中文摘要 | 第1-4页 |
Abstract | 第4-7页 |
第一章 前言 | 第7-14页 |
·DLC 薄膜概述 | 第7-8页 |
·DLC 薄膜的结构 | 第8-10页 |
·F-DLC 薄膜 | 第10页 |
·F-DLC 薄膜的结构 | 第10页 |
·F-DLC 薄膜的制备 | 第10-11页 |
·氟对DLC 薄膜性能的影响 | 第11-12页 |
·本研究小组的研究基础 | 第12页 |
·本论文的主要研究内容 | 第12-14页 |
第二章 F-DLC 薄膜的制备 | 第14-19页 |
·射频反应磁控溅射技术 | 第14-18页 |
·溅射技术(sputtering) | 第14-15页 |
·射频溅射技术(RF magnetron sputtering) | 第15页 |
·射频磁控溅射技术(RF magnetron sputtering) | 第15-16页 |
·射频反应磁控溅射技术(RF reactive magnetron sputtering) | 第16-17页 |
·射频反应磁控溅射装置 | 第17-18页 |
·基片及其预处理 | 第18-19页 |
第三章 F-DLC 薄膜的结构及性能表征 | 第19-29页 |
·F-DLC 薄膜厚度的测量 | 第19页 |
·F-DLC 薄膜表面形貌的原子力显微镜表征 | 第19-20页 |
·F-DLC 薄膜的拉曼光谱表征(RAMAN SPECTROSCOPY) | 第20-23页 |
·F-DLC 薄膜的傅立叶红外吸收光谱表征(FTIR SPECTROSCOPY) | 第23-26页 |
·F-DLC 薄膜的疏水性能表征 | 第26-29页 |
第四章 F-DLC 薄膜疏水性能研究 | 第29-49页 |
·F-DLC 薄膜的疏水性能研究 | 第29-32页 |
·不同射频功率下F-DLC 薄膜的疏水性能 | 第29-30页 |
·不同流量比下F-DLC 薄膜的疏水性能 | 第30-32页 |
·F-DLC 薄膜的沉积速率 | 第32-34页 |
·F-DLC 薄膜的AFM 图谱研究 | 第34-39页 |
·F-DLC 薄膜的拉曼图谱研究 | 第39-43页 |
·F-DLC 薄膜的红外吸收图谱研究 | 第43-49页 |
第五章 结论 | 第49-50页 |
参考文献 | 第50-53页 |
攻读学位期间公开发表论文 | 第53-54页 |
致谢 | 第54-55页 |
详细摘要 | 第55-57页 |