| 摘要 | 第3-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第11-36页 |
| 1.1 引言 | 第11-13页 |
| 1.2 侧向光伏效应 | 第13-21页 |
| 1.2.1 侧向光伏效应的简介 | 第13-14页 |
| 1.2.2 侧向光伏效应的机理 | 第14-15页 |
| 1.2.3 侧向光伏效应的应用 | 第15-21页 |
| 1.3 表面极性电阻效应 | 第21-24页 |
| 1.3.1 表面极性电阻效应的简介 | 第21-22页 |
| 1.3.2 表面极性电阻效应的机理 | 第22-23页 |
| 1.3.3 表面极型电阻效应的应用 | 第23-24页 |
| 1.4 载流子俘获效应 | 第24-26页 |
| 1.4.1 载流子俘获效应的简介 | 第24-25页 |
| 1.4.2 载流子俘获效应的机理 | 第25页 |
| 1.4.3 载流子俘获效应的应用 | 第25-26页 |
| 1.5 本论文主要工作 | 第26页 |
| 参考文献 | 第26-36页 |
| 第二章 理论模型与机理解释 | 第36-54页 |
| 2.1 侧向光伏理论解释 | 第36-44页 |
| 2.1.1 p-n结模型 | 第36-39页 |
| 2.1.2 金属-半导体(金属-氧化物-半导体)结构模型 | 第39-42页 |
| 2.1.3 丹倍效应模型 | 第42-44页 |
| 2.2 表面极性电阻效应理论解释 | 第44-48页 |
| 2.2.1 金属-氧化物-半导体模型 | 第44-46页 |
| 2.2.2 p-n结模型 | 第46-48页 |
| 2.3 载流子俘获效应理论解释 | 第48-51页 |
| 参考文献 | 第51-54页 |
| 第三章 样品的制备与分析 | 第54-67页 |
| 3.1 样品衬底的准备 | 第54-55页 |
| 3.2 样品制备设备及原理 | 第55-59页 |
| 3.2.1 直流溅射 | 第55-56页 |
| 3.2.2 射频溅射 | 第56-57页 |
| 3.2.3 磁控溅射 | 第57-59页 |
| 3.2.4 离子束溅射 | 第59页 |
| 3.3 样品制备步骤 | 第59-60页 |
| 3.3.1 溅射步骤 | 第59-60页 |
| 3.3.2 沉积率定标 | 第60页 |
| 3.4 样品形貌表征及组分分析 | 第60-65页 |
| 3.4.1 原子力显微镜(AFM) | 第61-62页 |
| 3.4.2 扫描电子显微镜(SEM) | 第62-63页 |
| 3.4.3 X射线衍射仪(XRD) | 第63-64页 |
| 3.4.4 X射线能谱仪(EDS) | 第64-65页 |
| 参考文献 | 第65-67页 |
| 第四章 纳米薄膜结构中侧向光伏效应及脉冲调控的研究 | 第67-86页 |
| 4.1 碳纳米薄膜结构中的侧向光伏效应 | 第67-74页 |
| 4.1.1 研究背景及工作简介 | 第67-68页 |
| 4.1.2 碳薄膜样品的制备 | 第68页 |
| 4.1.3 不同碳薄膜厚度实验曲线的分析与讨论 | 第68-71页 |
| 4.1.4 基于扩散模型的理论解释及模拟 | 第71-73页 |
| 4.1.5 小结 | 第73-74页 |
| 4.2 利用激光和脉冲在纳米碳薄膜上激发巨大的非易失的侧向光伏的改变 | 第74-82页 |
| 4.2.1 研究背景及工作简介 | 第74页 |
| 4.2.2 C/SiO_2/Si样品的制备 | 第74-75页 |
| 4.2.3 样品的形貌分析 | 第75页 |
| 4.2.4 脉冲增强侧向光伏实验结果的分析 | 第75-79页 |
| 4.2.5 实验现象的理论解释 | 第79-82页 |
| 4.2.6 小结 | 第82页 |
| 4.3 本章总结 | 第82-83页 |
| 参考文献 | 第83-86页 |
| 第五章 表面极性电阻效应及脉冲调控效应的研究 | 第86-118页 |
| 5.1 利用激光在氧化亚铜-硅异质结结构中调制出表面极性电阻效应 | 第86-96页 |
| 5.1.1 研究背景及工作简介 | 第86-87页 |
| 5.1.2 氧化亚铜样品的制备 | 第87页 |
| 5.1.3 Cu_2O/Si样品的检测 | 第87-88页 |
| 5.1.4 实验结果的分析与讨论 | 第88-91页 |
| 5.1.5 衬底温度及衬底材料的分析 | 第91-93页 |
| 5.1.6 基于载流子扩散与漂移模型的机理解释 | 第93-95页 |
| 5.1.7 小结 | 第95-96页 |
| 5.2 碳纳米薄膜上利用脉冲和激光调制出的非易失性电阻效应 | 第96-104页 |
| 5.2.1 研究背景及工作简介 | 第96页 |
| 5.2.2 碳薄膜样品的制备 | 第96页 |
| 5.2.3 C/SiO_2/Si结构的形貌分析 | 第96-97页 |
| 5.2.4 实验结果的分析与讨论 | 第97-100页 |
| 5.2.5 实验现象的理论解释 | 第100-103页 |
| 5.2.6 小结 | 第103-104页 |
| 5.3 在硅基非连续铜薄膜结构中用电脉冲和激光调控的极性电阻效应 | 第104-111页 |
| 5.3.1 研究背景及工作简介 | 第104页 |
| 5.3.2 铜薄膜样品的制备与测试 | 第104-105页 |
| 5.3.3 Cu/SiO_2/Si样品的形貌分析 | 第105页 |
| 5.3.4 实验结果的分析与讨论 | 第105-107页 |
| 5.3.5 表面极性电阻现象的理论解释 | 第107-110页 |
| 5.3.6 电阻曲线平移现象的理论解释 | 第110-111页 |
| 5.3.7 小结 | 第111页 |
| 5.4 本章总结 | 第111-112页 |
| 参考文献 | 第112-118页 |
| 第六章 全文总结 | 第118-123页 |
| 6.1 主要结论 | 第118-120页 |
| 6.2 本文创新点 | 第120-121页 |
| 6.3 研究展望 | 第121-123页 |
| 攻读博士学位期间发表或录用的论文 | 第123-125页 |
| 致谢 | 第125-128页 |
