| 摘要 | 第3-5页 |
| Abstract | 第5-7页 |
| 第一章 分子印迹电化学传感器及抗癌活性生物碱的分析测定研究概述 | 第13-25页 |
| 1 分子印迹技术 | 第13-17页 |
| 1.1 分子印迹技术的原理及应用 | 第13-15页 |
| 1.2 分子印迹聚合物印迹效果的影响因素 | 第15-17页 |
| 1.2.1 制备方法 | 第15-16页 |
| 1.2.2 模板分子 | 第16页 |
| 1.2.3 功能单体 | 第16-17页 |
| 1.2.4 交联剂 | 第17页 |
| 2 分子印迹电化学传感器 | 第17-20页 |
| 2.1 工作原理及分类 | 第18页 |
| 2.2 分析特点 | 第18-20页 |
| 3 抗癌活性生物碱的分析检测 | 第20-23页 |
| 3.1 紫外分光光度法 | 第21页 |
| 3.2 高效液相色谱法 | 第21-22页 |
| 3.3 液相色谱联用技术 | 第22页 |
| 3.4 高效毛细管电泳法 | 第22-23页 |
| 3.5 电化学传感器法 | 第23页 |
| 4 本论文的研究目的和研究内容 | 第23-25页 |
| 第二章 喜树碱和羟基喜树碱分子印迹电化学传感器的研究 | 第25-55页 |
| 第2.1节 引言 | 第25-26页 |
| 第2.2节 主要仪器、试剂与材料 | 第26-27页 |
| 1 主要仪器和试剂 | 第26-27页 |
| 2 样品溶液的制备 | 第27页 |
| 第2.3节 基于石墨烯的羟基喜树碱分子印迹电化学传感器的研究 | 第27-40页 |
| 1 实验方法 | 第27-29页 |
| 1.1 石墨烯制备 | 第27-28页 |
| 1.2 石墨烯修饰玻碳电极(G/GCE)的制备 | 第28页 |
| 1.3 分子印迹及非印迹膜修饰玻碳电极的制备 | 第28页 |
| 1.4 电化学检测条件和实验方法 | 第28-29页 |
| 2 结果与讨论 | 第29-40页 |
| 2.1 HCPT-MIM/G/GCE传感器制备条件优化 | 第29-32页 |
| 2.1.1 功能单体的选择与比例优化 | 第29-30页 |
| 2.1.2 交联剂比例的优化 | 第30-31页 |
| 2.1.3 模板洗脱方式的选择 | 第31-32页 |
| 2.2 检测条件的优化 | 第32-34页 |
| 2.2.1 电解质溶液及pH的优化 | 第32-33页 |
| 2.2.2 富集电位和时间的优化 | 第33-34页 |
| 2.3 传感器的表征 | 第34-37页 |
| 2.3.1 羟基喜树碱分子印迹膜、非印迹膜的SEM表征 | 第34页 |
| 2.3.2 羟基喜树碱分子印迹膜、非印迹膜的红外光谱表征 | 第34-35页 |
| 2.3.3 HCPT-MIM/G/GCE的电化学表征 | 第35-36页 |
| 2.3.4 HPCT在修饰电极上的电化学行为 | 第36-37页 |
| 2.4 印迹传感器的分析特性 | 第37-39页 |
| 2.4.1 线性范围和检出限 | 第37-38页 |
| 2.4.2 传感器的选择性 | 第38-39页 |
| 2.4.3 稳定性和重现性 | 第39页 |
| 2.5 实际样品的测定 | 第39-40页 |
| 第2.4节 基于石墨烯的喜树碱分子印迹电化学传感器的研究 | 第40-52页 |
| 1 实验方法 | 第40-41页 |
| 1.1 CPT分子印迹聚合物和非印迹聚合物的制备 | 第40-41页 |
| 1.2 分子印迹及非印迹聚合物修饰玻碳电极的制备 | 第41页 |
| 1.3 电化学检测条件 | 第41页 |
| 2 结果与讨论 | 第41-52页 |
| 2.1 CPT-MIP/G/GCE传感器制备条件优化 | 第41-43页 |
| 2.1.1 CPT-MIP制备条件的优化 | 第41-42页 |
| 2.1.2 CPT-MIP浓度的优化 | 第42-43页 |
| 2.2 检测条件的优化 | 第43-45页 |
| 2.2.1 支持电解质及其pH的优化 | 第43-44页 |
| 2.2.2 孵化时间的优化 | 第44-45页 |
| 2.3 传感器的表征 | 第45-47页 |
| 2.3.1 SEM表征 | 第45-46页 |
| 2.3.2 红外光谱表征 | 第46页 |
| 2.3.3 电化学表征 | 第46-47页 |
| 2.4 印迹传感器的分析特性 | 第47-51页 |
| 2.4.1 线性范围和检出限 | 第47-50页 |
| 2.4.2 选择性实验 | 第50-51页 |
| 2.4.3 稳定性和重现性 | 第51页 |
| 2.5 实际样品的测定 | 第51-52页 |
| 第2.5节 HCPT-MIM/G/GCE与CPT-MIP/G/GCE联用同时测定喜树碱和羟基喜树碱 | 第52-54页 |
| 1 实验方法 | 第52页 |
| 2 结果与讨论 | 第52-54页 |
| 第2.6节 结论 | 第54-55页 |
| 第三章 两种乌头碱分子印迹电化学传感器的研究 | 第55-79页 |
| 第3.1节 引言 | 第55-56页 |
| 第3.2节 主要仪器、试剂与材料 | 第56-57页 |
| 1 主要仪器与试剂 | 第56页 |
| 2 样品溶液的制备 | 第56-57页 |
| 第3.3节 基于乌头碱印迹聚合物与碳纳米管修饰的碳糊电极研究 | 第57-67页 |
| 1 实验方法 | 第57-58页 |
| 1.1 ACO分子印迹聚合物和非印迹聚合物的制备 | 第57页 |
| 1.2 分子印迹及非印迹聚合物和碳纳米管修饰碳糊电极的制备 | 第57-58页 |
| 1.3 电化学检测条件 | 第58页 |
| 2 结果与讨论 | 第58-67页 |
| 2.1 MIP/CNTs/CPE传感器制备条件优化 | 第58-60页 |
| 2.1.1 ACO-MIP制备条件的优化 | 第58-59页 |
| 2.1.2 MIP与CNTs用量的优化 | 第59-60页 |
| 2.2 检测条件的优化 | 第60-62页 |
| 2.2.1 电解质溶液种类及pH的优化 | 第60-61页 |
| 2.2.2 检测电位的优化 | 第61-62页 |
| 2.3 传感器的表征 | 第62-64页 |
| 2.3.1 SEM表征 | 第62页 |
| 2.3.2 ACO-MIP、NIP的红外光谱表征 | 第62-63页 |
| 2.3.3 各修饰电极的电化学表征 | 第63-64页 |
| 2.4 印迹传感器的分析特性 | 第64-67页 |
| 2.4.1 线性范围和检出限 | 第64-65页 |
| 2.4.2 选择性与干扰实验 | 第65-67页 |
| 2.4.3 稳定性和重现性 | 第67页 |
| 2.5 实际样品的测定 | 第67页 |
| 第3.4节 基于原位聚合的乌头碱分子印迹传感器的研究 | 第67-76页 |
| 1 实验方法 | 第67-69页 |
| 1.1 分子印迹及非印迹膜修饰电极的制备 | 第67-68页 |
| 1.2 电化学检测条件和实验方法 | 第68-69页 |
| 2 结果与讨论 | 第69-76页 |
| 2.1 ACO-MIM/GCE传感器制备条件优化 | 第69-71页 |
| 2.1.1 功能单体的选择与比例优化 | 第69-70页 |
| 2.1.2 交联剂比例的优化 | 第70-71页 |
| 2.1.3 洗脱条件的优化 | 第71页 |
| 2.2 孵化时间的优化 | 第71-72页 |
| 2.3 传感器的表征 | 第72-74页 |
| 2.3.1 SEM表征 | 第72页 |
| 2.3.2 红外光谱表征 | 第72-73页 |
| 2.3.3 电化学表征 | 第73-74页 |
| 2.4 印迹传感器的分析特性 | 第74-76页 |
| 2.4.1 线性范围和检出限 | 第74-75页 |
| 2.4.2 选择性与干扰研究 | 第75页 |
| 2.4.3 稳定性和重现性 | 第75-76页 |
| 2.5 实际样品的测定 | 第76页 |
| 第3.5节 结论 | 第76-79页 |
| 参考文献 | 第79-92页 |
| 附录 | 第92-93页 |
| 致谢 | 第93页 |
