薄膜生长初期的蒙特卡罗模拟研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-8页 |
| 1 绪论 | 第8-16页 |
| ·课题研究背景和意义 | 第8-9页 |
| ·薄膜生长的研究进展 | 第9-15页 |
| ·计算模型的发展 | 第9-11页 |
| ·研究现状 | 第11-15页 |
| ·本文主要工作 | 第15-16页 |
| 2 薄膜材料的形成过程和理论模式 | 第16-27页 |
| ·薄膜的制备方法 | 第16-17页 |
| ·薄膜生长的表面原子过程 | 第17-22页 |
| ·沉积过程 | 第17-19页 |
| ·脱附过程 | 第19-20页 |
| ·扩散过程 | 第20-22页 |
| ·薄膜生长的理论模式 | 第22-26页 |
| ·岛状生长模式 | 第24-25页 |
| ·层状生长模式 | 第25页 |
| ·层岛状生长模式 | 第25页 |
| ·生长模式之间的相互转化 | 第25-26页 |
| ·二元及多元薄膜生长过程与模式 | 第26页 |
| ·本章小结 | 第26-27页 |
| 3 薄膜生长的Monte Carlo模拟方法 | 第27-33页 |
| ·Monte Carlo方法基本理论 | 第27-29页 |
| ·Monte Carlo方法简介 | 第27-28页 |
| ·Monte Carlo方法的基本步骤和特点 | 第28-29页 |
| ·随机性问题的Monte Carlo方法 | 第29-31页 |
| ·随机行走模拟 | 第30页 |
| ·格子类型 | 第30-31页 |
| ·薄膜生长问题的Monte Carlo算法 | 第31-32页 |
| ·本章小结 | 第32-33页 |
| 4 薄膜二维生长模型 | 第33-45页 |
| ·模型简介 | 第33页 |
| ·模型的建立 | 第33-38页 |
| ·基底结构及处理方法 | 第33-35页 |
| ·计算模型 | 第35-38页 |
| ·模拟结果分析 | 第38-44页 |
| ·基底温度的影响 | 第39-40页 |
| ·能量参数的影响 | 第40-44页 |
| ·本章小结 | 第44-45页 |
| 5 薄膜三维生长模型 | 第45-55页 |
| ·模型的建立 | 第45-49页 |
| ·基底结构及处理方法 | 第45-46页 |
| ·计算模型 | 第46-49页 |
| ·模拟结果分析 | 第49-54页 |
| ·ES势的影响 | 第50-51页 |
| ·基底温度的影响 | 第51-52页 |
| ·沉积速率的影响 | 第52-54页 |
| ·本章小结 | 第54-55页 |
| 6 二元合金薄膜二维生长模型 | 第55-67页 |
| ·NiTi合金薄膜简介 | 第55-56页 |
| ·模型的建立 | 第56-60页 |
| ·基底结构及处理方法 | 第56-57页 |
| ·计算模型 | 第57-60页 |
| ·模拟结果分析 | 第60-65页 |
| ·基底温度的影响 | 第61-63页 |
| ·沉积速率的影响 | 第63-65页 |
| ·本章小结 | 第65-67页 |
| 结论 | 第67-69页 |
| 参考文献 | 第69-75页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第75-76页 |
| 致谢 | 第76-78页 |
