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基于纳米器件构建的CMOS逻辑电路设计研究

摘要第4-5页
Abstract第5页
专用术语注释表第8-10页
第一章 绪论第10-22页
    1.1 碳纳米管简介第10-16页
    1.2 碳纳米管场效应管简介第16-17页
    1.3 碳纳米管场效应管的研究进展第17-19页
    1.4 本文的主要研究内容和创新点第19-22页
        1.4.1 本文的主要研究内容第19-20页
        1.4.2 本文的创新点第20-22页
第二章 量子输运理论及计算模型第22-31页
    2.1 Landauer - Büttiker输运理论第22-23页
    2.2 非平衡格林函数第23-27页
    2.3 场效应晶体管的电学特性计算模型第27-30页
    2.4 本章小结第30-31页
第三章 新型碳纳米场效应晶体管的的电学输运特性第31-44页
    3.1 基于沟道工程的n - i - n型碳纳米场效应管的输运特性第31-36页
        3.1.1 Halo掺杂对CNTFET直流特性的影响第32-34页
        3.1.2 Halo掺杂CNTFET的高频特性分析第34-36页
    3.2 基于沟道工程的p - i - n型碳纳米场效应管的输运特性第36-43页
        3.2.1 栅介电常数对TFET性能的影响第36-38页
        3.2.2 轻掺杂对HTFET输运特性的影响第38-43页
    3.3 本章小结第43-44页
第四章 基于新型碳纳米场效应管的电路特性研究第44-60页
    4.1 CNTFET的SPICE查找表模型第44-46页
    4.2 CNTFET逻辑电路的实现第46-52页
        4.2.1 CNTFET反相器逻辑功能的实现第47-48页
        4.2.2 CNTFET或门逻辑功能的实现第48-49页
        4.2.3 CNTFET与门逻辑功能的实现第49页
        4.2.4 CNTFET异或门逻辑功能的实现第49-50页
        4.2.5 CNTFET加法器逻辑功能的实现第50-52页
    4.3 Halo掺杂结构对n - i - n型场效应晶体管构建的电路性能的影响第52-56页
        4.3.1 Halo掺杂对反相器性能的影响第52-53页
        4.3.2 Halo掺杂对SRAM性能的影响第53-56页
    4.4 异质轻掺杂结构对p - i - n型场效应晶体管构建的电路性能的影响第56-59页
        4.4.1 异质轻掺杂对反相器性能的影响第56-57页
        4.4.2 Vdd变化对反相器性能的影响第57-59页
    4.5 本章小结第59-60页
第五章 场效应晶体管栅极隧穿电流对逻辑电路功能的影响第60-68页
    5.1 栅电流机制分析第60-61页
    5.2 栅电流模型第61-63页
    5.3 栅电流模型在电路中的应用第63-67页
    5.4 本章小结第67-68页
第六章 总结与展望第68-69页
参考文献第69-72页
附录1 攻读硕士学位期间撰写的论文第72-73页
附录2 攻读硕士学位期间参加的科研项目第73-74页
致谢第74页

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