| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-20页 |
| 1.1 引言 | 第10-11页 |
| 1.2 氧化锌（ZnO）的性质与研究现状 | 第11-12页 |
| 1.2.1 ZnO的晶体结构 | 第11页 |
| 1.2.2 ZnO的基本性质及应用 | 第11-12页 |
| 1.3 铁电材料简介及其应用 | 第12-13页 |
| 1.4 钛酸钡（BaTiO_3）的性质 | 第13-14页 |
| 1.4.1 BaTiO_3的晶体结构 | 第13页 |
| 1.4.2 BaTiO_3的基本性质 | 第13-14页 |
| 1.5 铁电/半导体异质结的研究现状 | 第14-15页 |
| 本文主要研究内容 | 第15-16页 |
| 参考文献 | 第16-20页 |
| 第二章 BaTiO_3/ZnO外延异质结生长与电学测试手段 | 第20-28页 |
| 2.1 脉冲激光沉积 | 第20-22页 |
| 2.1.1 脉冲激光沉积（PLD）系统 | 第20-21页 |
| 2.1.2 PLD沉积薄膜的原理 | 第21-22页 |
| 2.2 表征手段 | 第22-24页 |
| 2.2.1 X射线衍射（XRD） | 第22-23页 |
| 2.2.2 铁电材料电滞回线测试 | 第23-24页 |
| 2.3 电学性能测试 | 第24-25页 |
| 2.3.1 Keithley2400简介 | 第24-25页 |
| 2.3.2 Keithley4200简介 | 第25页 |
| 本章小结 | 第25-26页 |
| 参考文献 | 第26-28页 |
| 第三章 ZnO外延薄膜的生长和性质 | 第28-38页 |
| 3.1 ZnO薄膜的制备 | 第28-29页 |
| 3.1.1 衬底的选择与清洗 | 第28页 |
| 3.1.2 制备方法 | 第28-29页 |
| 3.2 XRD测试 | 第29-32页 |
| 3.2.1 θ-2θ 扫描 | 第29页 |
| 3.2.2 ω 扫描和 Ф 扫描 | 第29-32页 |
| 3.3 ZnO薄膜的光学性质 | 第32-33页 |
| 3.3.1 光致发光谱（PL） | 第32-33页 |
| 3.3.2 紫外-可见-红外光谱仪（UV-Vis-NIR） | 第33页 |
| 3.4 ZnO薄膜的电学性质 | 第33-35页 |
| 3.4.1 四探针法测电阻率 | 第33-34页 |
| 3.4.2 ZnO薄膜的IV特性 | 第34-35页 |
| 本章小结 | 第35-36页 |
| 参考文献 | 第36-38页 |
| 第四章 BaTiO_3/ZnO外延异质结的生长和电学特性 | 第38-48页 |
| 4.1 BaTiO_3/ZnO异质结样品的制备 | 第38-39页 |
| 4.2 BaTiO_3/ZnO异质结的表征测试 | 第39-42页 |
| 4.2.1 θ-2θ 测试 | 第39页 |
| 4.2.2 BaTiO_3/ZnO异质结 φ 扫描测试 | 第39-40页 |
| 4.2.3 光致发光谱（PL）和吸收光谱 | 第40-42页 |
| 4.3 样品的电学性能测试 | 第42-44页 |
| 4.3.1 铁电测试 | 第42页 |
| 4.3.2 I-V测试 | 第42-44页 |
| 4.4 关于改进BaTiO_3/ZnO异质结样品的探究 | 第44-46页 |
| 本章小结 | 第46-47页 |
| 参考文献 | 第47-48页 |
| 第五章 不同激光能量生长BaTiO_3/ZnO外延异质结的电学性质 | 第48-56页 |
| 5.1 BaTiO_3/ZnO外延异质结的表征 | 第48-49页 |
| 5.2 实验现象分析 | 第49-51页 |
| 5.3 低温下电学性能的探究 | 第51-53页 |
| 本章小结 | 第53-54页 |
| 参考文献 | 第54-56页 |
| 总结与展望 | 第56-58页 |
| 致谢 | 第58-60页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文 | 第60-61页 |
