| 摘要 | 第8-9页 |
| Abstract | 第9-10页 |
| 第一章 绪论 | 第11-33页 |
| 第一节 傅里叶变换红外光谱技术概述 | 第11-17页 |
| 1.1.1 红外光谱简介 | 第11-12页 |
| 1.1.2 红外吸收光谱基本概念 | 第12-13页 |
| 1.1.3 傅里叶变换红外光谱仪结构特点 | 第13-14页 |
| 1.1.4 原位红外光谱技术介绍及应用 | 第14-17页 |
| 第二节 有机半导体聚3-已基噻吩研究现状 | 第17-25页 |
| 1.2.1 有机半导体简介 | 第17-18页 |
| 1.2.2 聚3-已基噻吩基本性质及背景介绍 | 第18-23页 |
| 1.2.3 以聚3-烷基噻吩主体的应用研究现状 | 第23-25页 |
| 第三节 本文的选题依据及主要内容 | 第25-26页 |
| 1.3.1 选题依据 | 第25-26页 |
| 1.3.2 主要内容 | 第26页 |
| 第四节 主要表征手段和仪器设备 | 第26-28页 |
| 参考文献 | 第28-33页 |
| 第二章 惰性气氛中P3HT原位红外光谱检测及性能的研究 | 第33-46页 |
| 第一节 实验部分 | 第33-34页 |
| 第二节 常规红外光谱峰归属 | 第34-35页 |
| 第三节 常压原位红外监测结果分析 | 第35-39页 |
| 第四节 高压原位红外检测结果与分析 | 第39-42页 |
| 第五节 本章小结 | 第42-44页 |
| 参考文献 | 第44-46页 |
| 第三章 利用原位红外技术对P3HT稳定性的研究 | 第46-69页 |
| 第一节 实验部分 | 第46-47页 |
| 第二节 不同含氧气氛原位红外检测 | 第47-59页 |
| 3.2.1 合成空气常压原位红外实验 | 第47-51页 |
| 3.2.2 低氧气浓度气氛下红外原位实验 | 第51-53页 |
| 3.2.3 合成空气分解模式原位红外实验结果 | 第53-55页 |
| 3.2.4 X射线电子能谱(XPS)实验结果 | 第55-58页 |
| 3.2.5 氧化机理分析 | 第58-59页 |
| 第三节 氧化对P3HT迁移率的影响 | 第59-64页 |
| 3.3.1 测试系统和样品制备 | 第59-61页 |
| 3.3.2 P3HT薄膜表面形貌 | 第61-62页 |
| 3.3.3 惰性气氛退火对P3HT薄膜迁移率影响 | 第62-63页 |
| 3.3.4 氧化前后P3HT薄膜迁移率的变化 | 第63-64页 |
| 第四节 本章小结 | 第64-67页 |
| 参考文献 | 第67-69页 |
| 第四章 结论 | 第69-71页 |
| 致谢 | 第71-72页 |
| 学位论文评阅及答辩情况表 | 第72页 |