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脉冲激光沉积制备不同择优取向的AlN薄膜的研究

摘要第4-5页
Abstract第5-6页
第一章 绪论第9-23页
    1.1 研究氮化铝(AlN)薄膜的意义第9-10页
    1.2 国内外研究现状第10-18页
        1.2.1 AlN 晶体概况第10-11页
        1.2.2 氮化铝的性能及用途第11-12页
        1.2.3 氮化铝薄膜的制备方法第12-16页
        1.2.4 氮化铝薄膜的应用前景和发展方向第16-18页
    1.3 本论文研究的目的和主要内容第18-19页
        1.3.1 本论文研究的目的第18页
        1.3.2 本论文研究的主要内容第18-19页
    参考文献第19-23页
第二章 用脉冲激光沉积法制备氮化铝薄膜第23-31页
    2.1 脉冲激光沉积系统第23-24页
    2.2 制备AlN 薄膜第24-25页
        2.2.1 试验准备第24页
        2.2.2 AlN 薄膜沉积试验第24-25页
    2.3 AlN 薄膜的表征手段第25-29页
        2.3.1 X-射线衍射(XRD)第25-26页
        2.3.2 拉曼光谱(Raman)及傅立叶变换红外光谱(FTIR)第26页
        2.3.3 反射-吸收光谱第26-27页
        2.3.4 原子力显微镜(AFM)及扫描电子显微镜(SEM)第27页
        2.3.5 X 射线光电子能谱仪(XPS)第27-29页
    参考文献第29-31页
第三章 实验条件对氮化铝薄膜择优取向的影响第31-66页
    3.1 脉冲激光能量对氮化铝薄膜的影响第31-54页
        3.1.1 XRD 分析第31-36页
        3.1.2 Raman 和FTIR 光谱分析第36-40页
        3.1.3 AlN 薄膜的反射-吸收光谱第40-45页
        3.1.4 X 射线光电子能谱仪(XPS)分析第45-50页
        3.1.5 原子力显微镜(AFM)及扫描电子显微镜(SEM)第50-54页
    3.2 衬底温度对氮化铝薄膜的影响第54-58页
        3.2.1 在p-Si 衬底上沉积AlN 薄膜第55-57页
        3.2.2 在石英(SiO_2)及兰宝石(Al_2O_3)衬底上沉积 AlN 薄膜研究第57-58页
    3.3 N_2 偏压对氮化铝薄膜的影响第58-60页
    本章小节第60-61页
    参考文献第61-66页
第四章 总结第66-68页
硕士期间申请专利及完成和发表的论文第68-69页
致谢第69页

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