| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第9-23页 |
| 1.1 研究氮化铝（AlN）薄膜的意义 | 第9-10页 |
| 1.2 国内外研究现状 | 第10-18页 |
| 1.2.1 AlN 晶体概况 | 第10-11页 |
| 1.2.2 氮化铝的性能及用途 | 第11-12页 |
| 1.2.3 氮化铝薄膜的制备方法 | 第12-16页 |
| 1.2.4 氮化铝薄膜的应用前景和发展方向 | 第16-18页 |
| 1.3 本论文研究的目的和主要内容 | 第18-19页 |
| 1.3.1 本论文研究的目的 | 第18页 |
| 1.3.2 本论文研究的主要内容 | 第18-19页 |
| 参考文献 | 第19-23页 |
| 第二章 用脉冲激光沉积法制备氮化铝薄膜 | 第23-31页 |
| 2.1 脉冲激光沉积系统 | 第23-24页 |
| 2.2 制备AlN 薄膜 | 第24-25页 |
| 2.2.1 试验准备 | 第24页 |
| 2.2.2 AlN 薄膜沉积试验 | 第24-25页 |
| 2.3 AlN 薄膜的表征手段 | 第25-29页 |
| 2.3.1 X-射线衍射（XRD） | 第25-26页 |
| 2.3.2 拉曼光谱（Raman）及傅立叶变换红外光谱（FTIR） | 第26页 |
| 2.3.3 反射-吸收光谱 | 第26-27页 |
| 2.3.4 原子力显微镜（AFM）及扫描电子显微镜（SEM） | 第27页 |
| 2.3.5 X 射线光电子能谱仪（XPS） | 第27-29页 |
| 参考文献 | 第29-31页 |
| 第三章 实验条件对氮化铝薄膜择优取向的影响 | 第31-66页 |
| 3.1 脉冲激光能量对氮化铝薄膜的影响 | 第31-54页 |
| 3.1.1 XRD 分析 | 第31-36页 |
| 3.1.2 Raman 和FTIR 光谱分析 | 第36-40页 |
| 3.1.3 AlN 薄膜的反射-吸收光谱 | 第40-45页 |
| 3.1.4 X 射线光电子能谱仪（XPS）分析 | 第45-50页 |
| 3.1.5 原子力显微镜（AFM）及扫描电子显微镜（SEM） | 第50-54页 |
| 3.2 衬底温度对氮化铝薄膜的影响 | 第54-58页 |
| 3.2.1 在p-Si 衬底上沉积AlN 薄膜 | 第55-57页 |
| 3.2.2 在石英（SiO_2）及兰宝石（Al_2O_3）衬底上沉积 AlN 薄膜研究 | 第57-58页 |
| 3.3 N_2 偏压对氮化铝薄膜的影响 | 第58-60页 |
| 本章小节 | 第60-61页 |
| 参考文献 | 第61-66页 |
| 第四章 总结 | 第66-68页 |
| 硕士期间申请专利及完成和发表的论文 | 第68-69页 |
| 致谢 | 第69页 |
