| 摘要 | 第4-6页 |
| ABSTRACT | 第6-8页 |
| 符号表 | 第9-19页 |
| 第一章 绪论 | 第19-30页 |
| 1.1 本课题的研究意义 | 第19-21页 |
| 1.2 国内外研究现状 | 第21-29页 |
| 1.2.1 超精密研磨设备 | 第21-25页 |
| 1.2.2 研磨抛光盘有限元分析 | 第25-26页 |
| 1.2.3 玻璃材料超精密研磨和抛光 | 第26-29页 |
| 1.3 课题的来源及主要研究内容 | 第29-30页 |
| 1.3.1 课题来源 | 第29页 |
| 1.3.2 主要研究内容 | 第29-30页 |
| 第二章 圆光栅玻璃超精密研磨机的研发 | 第30-45页 |
| 2.1 圆光栅玻璃超精密研磨机的设计基本原则和总体设计思路 | 第30-31页 |
| 2.2 圆光栅玻璃超精密研磨机关键部件设计 | 第31-44页 |
| 2.2.1 研磨盘和抛光垫的材料选择 | 第31-32页 |
| 2.2.2 内冷却系统设计 | 第32-35页 |
| 2.2.3 修盘系统设计 | 第35-36页 |
| 2.2.4 加压和装夹系统设计 | 第36-39页 |
| 2.2.5 研磨盘振动量监测系统设计 | 第39-42页 |
| 2.2.6 其他辅助功能设计 | 第42-43页 |
| 2.2.7 研磨机总装结构设计 | 第43-44页 |
| 2.3 本章小结 | 第44-45页 |
| 第三章 研磨加工过程中研磨盘静力学与动力学有限元分析 | 第45-57页 |
| 3.1 研磨盘有限元模型的建立 | 第45-48页 |
| 3.1.1 模型建立 | 第45-46页 |
| 3.1.2 定义材料属性 | 第46-47页 |
| 3.1.3 定义分析步以及网格划分 | 第47页 |
| 3.1.4 施加载荷和边界条件 | 第47-48页 |
| 3.2 研磨盘刚度分析 | 第48-52页 |
| 3.2.1 无内冷却结构的研磨盘变形量 | 第48-49页 |
| 3.2.2 螺旋线槽内冷却结构研磨盘的变形量 | 第49-50页 |
| 3.2.3 扇形槽内冷却结构研磨盘的变形量 | 第50-51页 |
| 3.2.4 同心圆槽内冷却结构研磨盘的变形量 | 第51-52页 |
| 3.3 研磨盘模态分析 | 第52-56页 |
| 3.3.1 模态分析基本概念 | 第52-53页 |
| 3.3.2 螺旋线槽内冷却结构的研磨盘模态 | 第53-55页 |
| 3.3.3 扇形槽和同心圆槽内冷却结构的研磨盘模态 | 第55-56页 |
| 3.4 本章小结 | 第56-57页 |
| 第四章 研磨加工过程中瞬态温度场有限元分析 | 第57-76页 |
| 4.1 传热学的基本知识 | 第57-58页 |
| 4.1.1 热传导 | 第57页 |
| 4.1.2 热对流 | 第57-58页 |
| 4.1.3 热辐射 | 第58页 |
| 4.2 热分析的基本假设和计算方法 | 第58-61页 |
| 4.2.1 基本假设 | 第58-59页 |
| 4.2.2 计算方法 | 第59-61页 |
| 4.3 研磨加工有限元模型的建立 | 第61-63页 |
| 4.3.1 定义材料属性 | 第61页 |
| 4.3.2 相关参数的确定 | 第61-62页 |
| 4.3.3 边界条件设置 | 第62-63页 |
| 4.4 瞬态温度场有限元分析 | 第63-71页 |
| 4.4.1 工件不自转时的瞬态温度场 | 第63-66页 |
| 4.4.2 工件与研磨盘同向转动时的瞬态温度场 | 第66-68页 |
| 4.4.3 工件与研磨盘反向转动时的瞬态温度场 | 第68-71页 |
| 4.4.4 研磨加载压力对瞬态温度场的影响 | 第71页 |
| 4.5 瞬态温度场实验验证 | 第71-74页 |
| 4.5.1 工作转速 | 第72-73页 |
| 4.5.2 研磨加载压力 | 第73-74页 |
| 4.6 本章小结 | 第74-76页 |
| 第五章 圆光栅玻璃研磨与抛光工艺研究 | 第76-90页 |
| 5.1 实验设备和材料 | 第76-77页 |
| 5.1.1 研磨和抛光实验设备 | 第76页 |
| 5.1.2 实验辅助仪器 | 第76-77页 |
| 5.1.3 实验材料 | 第77页 |
| 5.2 测试与分析方法 | 第77-78页 |
| 5.2.1 材料去除总量的测量与计算 | 第77页 |
| 5.2.2 工件表面形貌观察和表面粗糙度测量 | 第77-78页 |
| 5.3 实验思路 | 第78-79页 |
| 5.4 圆光栅玻璃研磨加工工艺 | 第79-84页 |
| 5.4.1 研磨盘盘面开槽 | 第79页 |
| 5.4.2 磨料 | 第79-81页 |
| 5.4.3 研磨时间 | 第81-82页 |
| 5.4.4 研磨盘转速 | 第82-83页 |
| 5.4.5 研磨加载压力 | 第83-84页 |
| 5.5 圆光栅玻璃抛光加工工艺 | 第84-86页 |
| 5.5.1 抛光垫材料 | 第84-85页 |
| 5.5.2 磨料粒度 | 第85-86页 |
| 5.6 圆光栅玻璃研磨和抛光组合工艺优化 | 第86-89页 |
| 5.6.1 组合工艺方案 | 第86页 |
| 5.6.2 加工前后圆光栅玻璃表面质量对比 | 第86-88页 |
| 5.6.3 优化组合工艺 | 第88-89页 |
| 5.7 本章小结 | 第89-90页 |
| 结论与展望 | 第90-93页 |
| 一、结论 | 第90-92页 |
| 二、展望 | 第92-93页 |
| 参考文献 | 第93-100页 |
| 攻读学位期间发表的论文 | 第100-102页 |
| 致谢 | 第102-103页 |
| 附录1 干空气的物理性质 | 第103页 |
