摘要 | 第7-9页 |
ABSTRACT | 第9-10页 |
第1章 绪论 | 第11-19页 |
1.1 研究背景 | 第11-16页 |
1.1.1 半导体光催化技术原理 | 第11-12页 |
1.1.2 可见光催化剂的发展 | 第12页 |
1.1.3 钒酸盐异质结构光催化剂的优势 | 第12-16页 |
1.2 静电纺丝技术在材料制备上的优势 | 第16-18页 |
1.3 本论文的研究意义与主要内容 | 第18-19页 |
第2章 实验 | 第19-25页 |
2.1 实验试剂与仪器 | 第19-20页 |
2.2 静电纺丝工艺 | 第20-21页 |
2.3 光催化性能测试方法 | 第21页 |
2.4 主要表征方法 | 第21-25页 |
第3章 InVO_4/BiVO_4多孔纳米带的合成及光催化性能研究 | 第25-37页 |
3.1 引言 | 第25-26页 |
3.2 实验步骤 | 第26-27页 |
3.2.1 前驱溶胶的制备 | 第26-27页 |
3.2.2 静电纺丝参数 | 第27页 |
3.2.3 煅烧方法 | 第27页 |
3.3 结果与讨论 | 第27-36页 |
3.4 本章小结 | 第36-37页 |
第4章 TiO_2/BiVO_4异质结构的合成及光催化性能研究 | 第37-49页 |
4.1 引言 | 第37-38页 |
4.2 实验步骤 | 第38-39页 |
4.2.1 混合静电纺丝前驱溶胶的制备 | 第38页 |
4.2.2 多级结构前驱溶胶的制备 | 第38-39页 |
4.2.3 静电纺丝参数及煅烧方法 | 第39页 |
4.3 结果与讨论 | 第39-48页 |
4.4 本章小结 | 第48-49页 |
第5章 FeVO_4纳米带的合成及P掺杂对其光催化性能的影响 | 第49-63页 |
5.1 引言 | 第49-50页 |
5.2 实验步骤 | 第50-51页 |
5.2.1 静电纺丝前驱溶胶的制备 | 第50页 |
5.2.2 静电纺丝参数及煅烧方法 | 第50-51页 |
5.3 结果与讨论 | 第51-62页 |
5.4 本章小结 | 第62-63页 |
第6章 Fe_2O_3/FeVO_4仿生纳米带的合成及光催化性能研究 | 第63-73页 |
6.1 引言 | 第63-64页 |
6.2 实验步骤 | 第64页 |
6.2.1 静电纺丝前驱溶胶的制备 | 第64页 |
6.2.2 静电纺丝参数及煅烧方法 | 第64页 |
6.3 结果与讨论 | 第64-72页 |
6.4 本章小结 | 第72-73页 |
第7章 结论与展望 | 第73-75页 |
7.1 结论 | 第73页 |
7.2 展望 | 第73-75页 |
参考文献 | 第75-83页 |
致谢 | 第83-85页 |
在学期间主要科研成果 | 第85页 |
一、发表学术论文 | 第85页 |
二、其它科研成果 | 第85页 |