非球面CCOS抛光轨迹规划研究
| 摘要 | 第4-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第11-19页 |
| 1.1 课题来源 | 第11页 |
| 1.2 课题的研究背景及意义 | 第11-12页 |
| 1.3 国内外相关技术研究现状 | 第12-16页 |
| 1.3.1 小工具抛光技术发展概况 | 第12-14页 |
| 1.3.2 加工轨迹规划发展现状 | 第14-16页 |
| 1.4 论文的主要内容 | 第16-19页 |
| 第2章 抛光去除机理与抛光轨迹评价 | 第19-27页 |
| 2.1 CCOS 加工流程 | 第19-20页 |
| 2.2 CCOS 控制原理 | 第20-21页 |
| 2.2.1 Preston 假设 | 第20页 |
| 2.2.2 材料去除数学模型 | 第20-21页 |
| 2.3 引入去除区域分布的轨迹评价 | 第21-22页 |
| 2.4 抛光点去除区域计算 | 第22-26页 |
| 2.4.1 赫兹接触理论的应用 | 第22-23页 |
| 2.4.2 去除区域计算 | 第23-26页 |
| 2.5 本章小结 | 第26-27页 |
| 第3章 回转对称非球面抛光路径的仿真分析 | 第27-39页 |
| 3.1 非球面上去除区域的仿真建模 | 第27-29页 |
| 3.1.1 主曲率与主方向的求取 | 第27-28页 |
| 3.1.2 去除区域空间位置计算 | 第28-29页 |
| 3.2 阿基米德螺旋线仿真分析 | 第29-35页 |
| 3.2.1 二次非球面 | 第29-33页 |
| 3.2.2 高次非球面 | 第33-35页 |
| 3.3 轨迹间去除区域变化情况的量化 | 第35-37页 |
| 3.3.1 重叠率概念的提出 | 第35-36页 |
| 3.3.2 重叠率变化的影响 | 第36-37页 |
| 3.4 本章小结 | 第37-39页 |
| 第4章 回转对称非球面的等重叠率螺旋线轨迹规划 | 第39-57页 |
| 4.1 等重叠率螺旋线的生成 | 第39-42页 |
| 4.1.1 螺旋线行距控制 | 第39-40页 |
| 4.1.2 速度变化函数的求取 | 第40-41页 |
| 4.1.3 加工轨迹的迭代生成 | 第41-42页 |
| 4.2 等重叠率螺旋线仿真分析 | 第42-47页 |
| 4.2.1 二次非球面 | 第42-45页 |
| 4.2.2 高次非球面 | 第45-47页 |
| 4.3 重叠率变化分析 | 第47-52页 |
| 4.3.1 重叠率变化影响因素 | 第47-48页 |
| 4.3.2 投影行距变化分析 | 第48-49页 |
| 4.3.3 弹性接触变化分析 | 第49-52页 |
| 4.4 螺旋线轨迹类型选用 | 第52-53页 |
| 4.5 仅考虑投影行距变化算法 | 第53-55页 |
| 4.6 本章小结 | 第55-57页 |
| 第5章 光学自由曲面的抛光轨迹规划 | 第57-75页 |
| 5.1 三反镜与抛光机床的介绍与分析 | 第57-61页 |
| 5.1.1 离轴三反镜模型构建 | 第57-58页 |
| 5.1.2 三反镜面形特点分析 | 第58-60页 |
| 5.1.3 加工机床与路径类型选择 | 第60-61页 |
| 5.2 常用轨迹行距变化研究 | 第61-64页 |
| 5.2.1 行距变化简化预估方法 | 第61-62页 |
| 5.2.2 常用轨迹行距变化情况 | 第62-64页 |
| 5.3 相近回转对称曲面求取 | 第64-68页 |
| 5.3.1 回转母线的确定 | 第65-66页 |
| 5.3.2 最佳回转中心的确定 | 第66-67页 |
| 5.3.3 拟合结果 | 第67-68页 |
| 5.4 基于相近回转对称曲面的轨迹优化方法 | 第68-73页 |
| 5.4.1 螺旋线轨迹优化 | 第68-70页 |
| 5.4.2 同心圆轨迹的优化 | 第70-73页 |
| 5.5 三反镜加工轨迹的确定与实验 | 第73-74页 |
| 5.6 本章小结 | 第74-75页 |
| 第6章 结论与展望 | 第75-77页 |
| 参考文献 | 第77-82页 |
| 攻读硕士期间发表学术论文情况 | 第82-83页 |
| 致谢 | 第83页 |
