| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 前言 | 第11-13页 |
| 第一章 文献综述 | 第13-23页 |
| 1.1 氯碱行业的简介及产品用途 | 第13-14页 |
| 1.2 氯碱产能现状 | 第14页 |
| 1.3 氯碱行业的生产特点 | 第14-15页 |
| 1.4 离子膜制碱的发展过程 | 第15-17页 |
| 1.4.1 传统隔膜电解法 | 第15页 |
| 1.4.2 水银电解法 | 第15-16页 |
| 1.4.3 离子膜电解法 | 第16-17页 |
| 1.5 离子膜制碱的主要工艺流程 | 第17-19页 |
| 1.5.1 电解工艺流程 | 第17-18页 |
| 1.5.2 盐水脱氯工艺流程 | 第18-19页 |
| 1.5.3 氯氢处理 | 第19页 |
| 1.6 氯化氢合成工序 | 第19-21页 |
| 1.6.1 三合一石墨合成炉 | 第20页 |
| 1.6.2 盐酸脱吸法 | 第20-21页 |
| 1.7 化工过程模拟技术及研究进展 | 第21-22页 |
| 1.7.1 化工过程模拟系统的发展 | 第21-22页 |
| 1.7.2 过程系统稳态模拟 | 第22页 |
| 1.7.3 Aspen软件在离子膜制碱技术中的应用 | 第22页 |
| 1.8 本论文的研究目的、意义及研究内容 | 第22-23页 |
| 第二章 盐水精制与电解槽工段模拟与分析 | 第23-45页 |
| 2.1 引言 | 第23页 |
| 2.2 盐水精制工段模拟与分析 | 第23-34页 |
| 2.2.1 盐水精制工艺流程简介 | 第23页 |
| 2.2.2 主要控制指标 | 第23-24页 |
| 2.2.3 模拟流程的建立 | 第24页 |
| 2.2.4 结果与讨论 | 第24-34页 |
| 2.3 离子膜电解工段的模拟与分析 | 第34-44页 |
| 2.3.1 电解工艺概述 | 第34页 |
| 2.3.2 电解定律及重要参数 | 第34-36页 |
| 2.3.3 主要运行参数 | 第36-38页 |
| 2.3.4 电解槽Aspen用户模型的开发 | 第38-39页 |
| 2.3.5 主要物流的输入数据和控制指标 | 第39-42页 |
| 2.3.6 结果与讨论 | 第42-44页 |
| 2.4 本章小结 | 第44-45页 |
| 第三章 氯化氢合成工段模拟与分析 | 第45-61页 |
| 3.1 合成工段流程简介 | 第45-46页 |
| 3.1.1 反应原理 | 第45页 |
| 3.1.2 吸收原理 | 第45-46页 |
| 3.2 主要控制指标 | 第46页 |
| 3.3 模拟流程的建立 | 第46-47页 |
| 3.4 模拟结果与灵敏度分析 | 第47-59页 |
| 3.4.1 主要物流的模拟结果 | 第47-50页 |
| 3.4.2 灵敏度分析 | 第50-59页 |
| 3.5 本章小结 | 第59-61页 |
| 第四章 结论 | 第61-63页 |
| 参考文献 | 第63-65页 |
| 致谢 | 第65-67页 |
| 作者简介及导师简介 | 第67页 |