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基于BSIM4的SMIC 0.13um工艺RF MOSFET建模

摘要第1-6页
ABSTRACT第6-9页
第一章 绪论第9-13页
   ·引言第9页
   ·MOSFET模型的发展第9-11页
   ·论文的研究内容及结构第11-13页
第二章 阈值电压模型BSIM4介绍第13-28页
   ·引言第13-14页
   ·BSIM4模型第14-26页
     ·阈值电压模型第15-18页
     ·迁移率模型第18-19页
     ·漏电流模型第19-21页
     ·栅隧穿电流模型第21-23页
     ·衬底电流模型第23-24页
     ·本征电容模型第24-25页
     ·外部电容模型第25-26页
   ·BSIM4模型参数第26-27页
   ·小结第27-28页
第三章 直流参数提取和优化第28-41页
   ·测试器件的设计第28-29页
   ·模型参数提取方法第29-31页
   ·器件测试数据的获取第31-34页
   ·模型参数提取过程第34-37页
   ·仿真与测试结果对比第37-40页
   ·小结第40-41页
第4章 STI应力模型第41-56页
   ·浅沟槽隔离技术(STI)概况第41-42页
   ·STI应力对晶体管性能的影响第42-45页
     ·STI应力对载流子迁移率的影响第42-43页
     ·STI应力对能带的影响第43-45页
   ·STI应力方程第45-48页
   ·应力方程仿真结果分析第48-55页
   ·小结第55-56页
第5章 基于BSIM4的MOSFET射频模型第56-71页
   ·射频模型概述第56-57页
   ·RF仿真子电路模型第57-58页
   ·测试数据的获取第58-62页
     ·S参数第58-59页
     ·器件测试环境及校准第59-62页
     ·测试方案第62页
   ·S参数去嵌结构及去嵌流程第62-65页
   ·RF仿真电路模型参数的提取第65-68页
     ·外围寄生电阻、电感的提取第65-67页
     ·本征部分模型参数的提取第67-68页
     ·衬底阻抗网络部分参数提取第68页
   ·仿真与测试结果对比第68-70页
   ·小结第70-71页
第六章 总结与展望第71-73页
   ·总结第71页
   ·展望第71-73页
致谢第73-74页
参考文献第74-78页
附录第78页

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