摘要 | 第1-7页 |
Abstract | 第7-11页 |
第一章 绪论 | 第11-22页 |
·高熵合金的介绍 | 第11-14页 |
·高熵合金的定义 | 第11页 |
·高熵合金的制备方法 | 第11-12页 |
·高熵合金的组织结构 | 第12页 |
·高熵合金的性能 | 第12-14页 |
·高熵合金的发展现状 | 第14-16页 |
·高熵合金涂层材料的发展 | 第16-17页 |
·激光表面改性技术的介绍 | 第17-18页 |
·激光加工概述 | 第17页 |
·激光合金化的工艺 | 第17-18页 |
·摩擦学基本概念 | 第18-20页 |
·摩擦定律及理论 | 第18-19页 |
·磨损理论 | 第19-20页 |
·本课题的目的及意义 | 第20页 |
·课题研究内容 | 第20-22页 |
第二章 试验材料及方法 | 第22-28页 |
·试验材料 | 第22-24页 |
·基体材料 | 第22页 |
·涂层成分的设计及增强相的选择 | 第22-24页 |
·高熵合金激光合金化涂层的制备 | 第24-25页 |
·激光合金化层的微观形貌分析 | 第25页 |
·激光合金化层相结构分析 | 第25-26页 |
·激光合金化层的性能分析 | 第26-28页 |
·激光合金化层的硬度性能分析 | 第26页 |
·激光合金化层的摩擦磨损性能分析 | 第26-28页 |
第三章 试验结果与分析 | 第28-65页 |
·高熵合金形成规律 | 第28-29页 |
·Nd:YAG 固体激光器制备高熵合金涂层的研究 | 第29-33页 |
·高熵合金涂层的相结构 | 第29-30页 |
·高熵合金涂层的显微组织形貌 | 第30-32页 |
·高熵合金涂层的硬度分析 | 第32-33页 |
·半导体激光器制备高熵合金涂层的研究 | 第33-46页 |
·高熵合金涂层的相结构 | 第34-35页 |
·高熵合金涂层的显微组织形貌 | 第35-39页 |
·高熵合金化涂层的硬度 | 第39-40页 |
·高熵合金涂层的成分分析 | 第40-44页 |
·高熵合金涂层熵的计算 | 第44-46页 |
·高熵合金基复合材料 | 第46-47页 |
·高熵合金基复合材料性能 | 第46-47页 |
·高熵合金基复合材料涂层 | 第47页 |
·Nd:YAG 固体激光器制备高熵合金基复合材料涂层的研究 | 第47-56页 |
·高熵合金基复合材料涂层的相结构 | 第47-48页 |
·高熵合金基复合材料涂层的微观组织 | 第48-52页 |
·高熵合金基复合材料涂层的成分分析 | 第52-54页 |
·高熵合金基复合材料涂层的微观组织硬度 | 第54-56页 |
·半导体激光器制备高熵合金基复合材料涂层的研究 | 第56-60页 |
·高熵合金基复合材料涂层的相结构 | 第56-57页 |
·高熵合金基复合材料涂层的微观组织 | 第57-58页 |
·高熵合金基复合材料涂层的成分分析 | 第58-60页 |
·激光高熵合金化改性层的摩擦磨损性能 | 第60-65页 |
·高熵合金涂层的磨损性能 | 第60-62页 |
·高熵合金基复合材料涂层的磨损性能 | 第62-65页 |
第四章 结论 | 第65-66页 |
参考文献 | 第66-69页 |
在学研究成果 | 第69-70页 |
致谢 | 第70页 |