| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-9页 |
| 主要符号对照表 | 第9-10页 |
| 第1章 引言 | 第10-24页 |
| ·选题背景 | 第10-12页 |
| ·研究进展 | 第12-23页 |
| ·表面增强拉曼散射技术的应用 | 第13-16页 |
| ·表面增强荧光技术的应用 | 第16-18页 |
| ·表面增强的理论研究 | 第18-20页 |
| ·DNA 拉伸操纵研究 | 第20-22页 |
| ·表面增强技术与 TIRFM 技术的结合应用 | 第22-23页 |
| ·论文工作目标与任务 | 第23-24页 |
| 第2章 实验技术与仪器平台 | 第24-41页 |
| ·本章引论 | 第24-25页 |
| ·表面增强技术 | 第25-31页 |
| ·表面增强拉曼散射 | 第25-28页 |
| ·表面增强荧光 | 第28-31页 |
| ·全内反射荧光显微术 | 第31-33页 |
| ·分子梳技术 | 第33-35页 |
| ·光谱测量平台 | 第35-37页 |
| ·Renishaw RM2000 共焦拉曼谱仪 | 第35页 |
| ·Witec Alpha300SR 扫描共焦拉曼光学显微镜 | 第35-37页 |
| ·荧光成像平台及改进 | 第37-40页 |
| ·本章小结 | 第40-41页 |
| 第3章 纳米结构的表面增强效应研究 | 第41-65页 |
| ·本章引论 | 第41-42页 |
| ·银纳米芽结构的制备 | 第42-46页 |
| ·固态离子学制备方法 | 第42-43页 |
| ·生长电流与材料性质 | 第43-45页 |
| ·银纳米芽结构的表征 | 第45-46页 |
| ·银纳米芽结构的表面增强效应 | 第46-49页 |
| ·R6G 的性质 | 第46-47页 |
| ·R6G 的 SERS 检测 | 第47-49页 |
| ·银纳米芽结构的氧化对表面增强的影响 | 第49-51页 |
| ·银纳米芽基底氧化设计 | 第49-50页 |
| ·自然氧化与加热氧化对比 | 第50-51页 |
| ·银膜的氧化对表面增强性能的影响 | 第51-56页 |
| ·银膜氧化基底制备 | 第52页 |
| ·银膜氧化基底表面增强测试 | 第52-56页 |
| ·银膜基底氧化的定量分析 | 第56-61页 |
| ·氧化层厚度测量 | 第56-58页 |
| ·氧化基底形貌测量 | 第58-61页 |
| ·氧化对表面增强影响的机理研究 | 第61-64页 |
| ·本章小结 | 第64-65页 |
| 第4章 纳米结构基底上 DNA 分子的表面增强检测及人工操纵 | 第65-88页 |
| ·本章引论 | 第65-66页 |
| ·λDNA 分子的荧光标记与成像 | 第66-67页 |
| ·银纳米芽基底上λDNA 分子的表面增强测量 | 第67-77页 |
| ·λDNA 浓度对 SERS 光谱的影响 | 第67-70页 |
| ·扫描共焦拉曼光谱成像 | 第70-73页 |
| ·不同银纳米结构基底 SERS 能力对比 | 第73-74页 |
| ·表面增强荧光成像 | 第74-77页 |
| ·超顺排碳纳米管阵列的性质与表面处理 | 第77-79页 |
| ·超顺排碳纳米管阵列的性质 | 第77-78页 |
| ·超顺排碳纳米管阵列的表面处理 | 第78-79页 |
| ·超顺排碳纳米管阵列对λDNA 分子的拉直操纵 | 第79-87页 |
| ·λDNA 分子的拉直 | 第79-80页 |
| ·pH 对λDNA 分子拉直的影响 | 第80-81页 |
| ·碳纳米管阵列性质对λDNA 分子拉直的影响 | 第81-82页 |
| ·λDNA 分子在超顺排碳纳米管阵列上的运动 | 第82-84页 |
| ·力学参数估算 | 第84-87页 |
| ·本章小结 | 第87-88页 |
| 第5章 结论 | 第88-91页 |
| ·研究总结 | 第88-89页 |
| ·创新点与展望 | 第89-91页 |
| 参考文献 | 第91-100页 |
| 致谢 | 第100-102页 |
| 个人简历、在学期间发表的学术论文与研究成果 | 第102页 |