| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-13页 |
| ·集成电路技术发展概况 | 第7-8页 |
| ·可制造性设计问题 | 第8-11页 |
| ·光刻技术 | 第8-10页 |
| ·化学机械抛光技术 | 第10页 |
| ·当前DFM问题 | 第10-11页 |
| ·本文主要工作及内容结构 | 第11-13页 |
| 第二章 光刻技术与OPC | 第13-23页 |
| ·分辨率增强技术 | 第14-16页 |
| ·移相掩膜伊SM) | 第14-15页 |
| ·离轴照明(OAI) | 第15页 |
| ·光学邻近校正(OPC) | 第15-16页 |
| ·光学邻近校正技术 | 第16-21页 |
| ·OPC概述 | 第16-19页 |
| ·OPC背景 | 第19-20页 |
| ·面临的挑战 | 第20-21页 |
| ·本文研究内容 | 第21-23页 |
| 第三章 基于Model-based OPC原理的标准单元设计优化 | 第23-37页 |
| ·基于Cell的OPC技术研究现状 | 第23-24页 |
| ·一种新型的优化设计方法 | 第24-32页 |
| ·OPC修正复杂度的影响因素 | 第24-26页 |
| ·版图优化基本原理 | 第26-27页 |
| ·优化方法及实施过程 | 第27-31页 |
| ·单元版图优化验证 | 第31-32页 |
| ·单元库模型文件建立 | 第32-35页 |
| ·时序参数模型建立 | 第32页 |
| ·综合库建立 | 第32-33页 |
| ·仿真库建立 | 第33-34页 |
| ·布局布线库 | 第34-35页 |
| ·符号库建立 | 第35页 |
| ·本章总结 | 第35-37页 |
| 第四章 单元库验证 | 第37-51页 |
| ·单元库功能验证 | 第37-41页 |
| ·组合逻辑单元功能验证 | 第37-40页 |
| ·时序逻辑单元功能验证 | 第40-41页 |
| ·单元库工具流程验证 | 第41-45页 |
| ·行为级仿真 | 第42-43页 |
| ·逻辑综合 | 第43-44页 |
| ·静态时序分析 | 第44页 |
| ·布局布线 | 第44-45页 |
| ·后端分析 | 第45页 |
| ·单元库性能验证 | 第45-49页 |
| ·本章总结 | 第49-51页 |
| 第五章 总结与展望 | 第51-55页 |
| ·总结 | 第51-52页 |
| ·未来工作展望 | 第52-55页 |
| 致谢 | 第55-57页 |
| 参考文献 | 第57-61页 |
| 研究成果 | 第61页 |