镁合金表面处理薄膜均匀性的研究
| 致谢 | 第1-6页 |
| 中文摘要 | 第6-7页 |
| ABSTRACT | 第7-10页 |
| 1 绪论 | 第10-34页 |
| ·镁合金的特性与应用现状 | 第10-14页 |
| ·镁合金的特性 | 第10-11页 |
| ·镁合金的应用现状 | 第11-14页 |
| ·镁合金的腐蚀及防腐处理 | 第14-22页 |
| ·镁合金的腐蚀类型 | 第14-15页 |
| ·镁合金的腐蚀机理 | 第15-16页 |
| ·提高镁合金自身的耐腐蚀性 | 第16-18页 |
| ·镁合金表而处理技术 | 第18-22页 |
| ·微弧氧化技术 | 第22-31页 |
| ·微弧氧化技术的发展历史 | 第23-24页 |
| ·微弧氧化技术的工艺原理 | 第24-27页 |
| ·微弧氧化技术的特点 | 第27-29页 |
| ·微弧氧化技术的影响因素 | 第29页 |
| ·微弧氧化技术的应用前景 | 第29-30页 |
| ·微弧氧化存在的问题与研究方向 | 第30-31页 |
| ·本课题主要研究目的 | 第31页 |
| ·课题主要研究内容 | 第31-34页 |
| 2 实验材料及研究方法 | 第34-38页 |
| ·实验材料 | 第34页 |
| ·基本成分 | 第34页 |
| ·试样制备 | 第34页 |
| ·实验设备 | 第34-35页 |
| ·微弧氧化陶瓷膜的制备 | 第35-36页 |
| ·试样前处理 | 第35页 |
| ·电解液的配制 | 第35-36页 |
| ·微弧氧化处理 | 第36页 |
| ·实验分析方法及测试 | 第36页 |
| ·微弧氧化膜微观形貌特征分析 | 第36页 |
| ·微弧氧化膜相组成的测定 | 第36页 |
| ·实验步骤 | 第36-37页 |
| ·实验方案 | 第37-38页 |
| 3 工艺参数对微弧氧化膜层均匀性的影响 | 第38-58页 |
| ·前言 | 第38页 |
| ·等离子体简介 | 第38-40页 |
| ·回归分析概述 | 第40-42页 |
| ·微弧氧化膜的均匀性 | 第42-44页 |
| ·氢氧化钾浓度对微弧氧化膜层均匀性的影响 | 第44-47页 |
| ·氟化钾浓度对微弧氧化膜层均匀性的影响 | 第47-50页 |
| ·交流电压对微弧氧化膜层均匀性的影响 | 第50-53页 |
| ·氧气喷入量对微弧氧化膜层厚度不均匀性的影响 | 第53-55页 |
| ·处理时间对微弧氧化膜层厚度不均匀度的影响 | 第55-57页 |
| ·本章小结 | 第57-58页 |
| 4 微弧氧化膜的生长过程和微观形貌分析 | 第58-64页 |
| ·微弧氧化膜生长过程及机理 | 第58-59页 |
| ·微弧氧化陶瓷层的微观形貌特征 | 第59-62页 |
| ·陶瓷层的表面形貌特征 | 第59-61页 |
| ·陶瓷层的截面形貌特征 | 第61-62页 |
| ·微弧氧化膜的相组成 | 第62页 |
| ·本章小结 | 第62-64页 |
| 5 结论 | 第64-66页 |
| 参考文献 | 第66-70页 |
| 作者简历 | 第70-74页 |
| 学位论文数据集 | 第74页 |
