| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-5页 |
| 目录 | 第5-6页 |
| 一、绪论 | 第6-14页 |
| ·集成电路的发展历史及现状 | 第6-8页 |
| ·集成电路设计制造技术的发展 | 第8-9页 |
| ·标准单元设计的目的和意义 | 第9-10页 |
| ·深亚微米集成电路的可制造性问题 | 第10-13页 |
| ·本文要完成的主要工作 | 第13-14页 |
| 二、集成电路的设计制造技术介绍 | 第14-31页 |
| ·集成电路设计方法与实现技术 | 第14-21页 |
| ·系统设计方法 | 第14-18页 |
| ·系统实现技术 | 第18-20页 |
| ·几种设计方法的比较 | 第20-21页 |
| ·集成电路制造技术 | 第21-27页 |
| ·集成电路基本制造技术 | 第21-22页 |
| ·CMOS集成电路工艺 | 第22-27页 |
| ·与物理设计规则相关的可制造性问题 | 第27-30页 |
| ·设计规则对成品率的影响 | 第30-31页 |
| 三、标准单元和标准单元库 | 第31-45页 |
| ·标准单元及标准单元库的定义 | 第31-32页 |
| ·标准单元及标准单元库设计流程 | 第32-35页 |
| ·标准单元设计方法的优缺点 | 第35-37页 |
| ·使用KAZAM软件实现0.18μm标准单元的设计 | 第37-45页 |
| ·创建工艺文件(Technology Bulider) | 第38-39页 |
| ·创建结构文件(Architecture Builder) | 第39-40页 |
| ·设计单元电路 | 第40-43页 |
| ·版图自动布局布线 | 第43-45页 |
| 四、标准单元的可制造性设计规则研究 | 第45-59页 |
| ·实验流程 | 第45-46页 |
| ·标准单元参考设计规则的选择 | 第46-48页 |
| ·测试标准单元说明 | 第48-50页 |
| ·实验说明 | 第50-51页 |
| ·可制造性评定标准 | 第50-51页 |
| ·实验测试工具 | 第51页 |
| ·实验结果 | 第51-59页 |
| ·各项参考设计规则单独改变实验结果 | 第51-56页 |
| ·默认规则与修订规则比较实验结果 | 第56-59页 |
| 五、基于可制造性的0.18μm标准单元的设计 | 第59-63页 |
| 六、总结和展望 | 第63-65页 |
| 参考文献 | 第65-67页 |
| 致谢 | 第67页 |
