| 中文摘要 | 第1-8页 |
| ABSTRACT | 第8-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-26页 |
| §1.1 巨磁阻抗效应 | 第9-20页 |
| ·引言 | 第9-10页 |
| ·理论分析与实验进展 | 第10-17页 |
| ·巨磁阻抗效应的应用进展 | 第17-20页 |
| §1.2 磁性薄膜材料的磁各向异性及与巨磁阻抗效应的关系 | 第20-23页 |
| ·磁性薄膜材料的磁各向异性 | 第20-21页 |
| ·巨磁阻抗效应与磁结构的关系 | 第21-23页 |
| §1.3 Permalloy合金[63] | 第23-25页 |
| §1.4 本文的研究背景和主要研究内容 | 第25-26页 |
| 第二章 薄膜样品的制备方法及主要表征手段 | 第26-35页 |
| §2.1 样品制备方法 | 第26-30页 |
| ·磁控溅射法 | 第26-27页 |
| ·基片清洗与靶材预处理 | 第27-28页 |
| ·制备条件 | 第28-29页 |
| ·热处理设备与方法 | 第29-30页 |
| §2.2 样品的表征手段 | 第30-34页 |
| ·α台阶仪测量膜厚 | 第30-31页 |
| ·X射线衍射分析 | 第31-32页 |
| ·振动样品磁强计(VSM) | 第32-34页 |
| §2.3 巨磁阻抗测试系统 | 第34-35页 |
| 第三章 (NiFe／SiO_2)n／Cu／(SiO_2／NiFe)n复合结构多层膜样品的巨磁阻抗效应及其磁性能研究 | 第35-50页 |
| §3.1 (NiFe／SiO_2)n／Cu／(SiO_2／NiFe)n复合结构多层膜样品 | 第35-38页 |
| §3.2 (NiFe／SiO_2)n／Cu／(SiO_2／NiFe)n复合结构多层膜样品的巨磁阻抗效应 | 第38-45页 |
| ·不同退火温度情况下样品的巨磁阻抗效应 | 第38-41页 |
| ·样品几何结构与巨磁阻抗效应的关系 | 第41-45页 |
| §3.3 (NiFe／SiO_2)n／Cu／(SiO_2／NiFe)n复合结构多层膜样品的结构与磁性能研究 | 第45-50页 |
| ·不同结构薄膜样品的X射线衍射分析 | 第45-46页 |
| ·薄膜样品的软磁性能 | 第46-47页 |
| ·样品结构与磁性能变化对其巨磁阻抗效应的影响 | 第47-50页 |
| 第四章 采用Cu层作为铁磁层阻隔层的复合结构多层膜样品的巨磁阻抗效应研究 | 第50-60页 |
| §4.1 采用Cu作为阻隔层的复合结构多层膜 | 第50-53页 |
| §4.2 不同温度热处理的NiFe复合结构多层膜的巨磁阻抗效应 | 第53-57页 |
| §4.3 双层结构(Ni_8OFe_2O／Cu)循环次数N与复合结构多层膜巨磁阻抗效应的关系 | 第57-59页 |
| §4.4 本章小结 | 第59-60页 |
| 第五章 结语 | 第60-61页 |
| 参考文献 | 第61-65页 |
| 攻读硕士期间发表的论文 | 第65-66页 |
| 后记 | 第66页 |
