| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第1章 绪论 | 第9-26页 |
| 1．1 TiO_2光催化降解技术研究的发展状况 | 第9-10页 |
| 1．2 TiO_2的光催化原理 | 第10-18页 |
| 1．2．1 半导体材料的光催化原理 | 第10-12页 |
| 1．2．2 纳米光催化剂的效应 | 第12页 |
| 1．2．3 半导体 TiO_2的光催化原理 | 第12-14页 |
| 1．2．4 Ag掺杂纳米 TiO_2材料的光催化原理 | 第14-15页 |
| 1．2．5 光催化降解速率和效率的影响因素 | 第15-18页 |
| 1．3 纳米 TiO_2光催化剂的应用现状 | 第18-20页 |
| 1．3．1 污染废水的处理 | 第18-19页 |
| 1．3．2 TiO_2光催化在气相中的应用 | 第19页 |
| 1．3．3 杀菌 | 第19-20页 |
| 1．4 纳米 TiO_2应用前景展望 | 第20页 |
| 1．5 纳米 TiO_2光催化剂的研究发展方向 | 第20-21页 |
| 1．6 TiO_2薄膜的溶胶-凝胶制备方法 | 第21-24页 |
| 1．6．1 溶胶凝胶法(Sol-Gel method) | 第21-22页 |
| 1．6．2 浸渍-提拉法(Dip-Coating)薄膜制备技术 | 第22-23页 |
| 1．6．3 浸渍-提拉制膜法工艺参数 | 第23-24页 |
| 1．7 问题的提出和论文研究内容 | 第24-26页 |
| 第2章 试验方案与表征方法 | 第26-29页 |
| 2．1 TiO_2薄膜制备的原材料 | 第26页 |
| 2．2 TiO_2薄膜制备的装置及测试设备 | 第26页 |
| 2．3 TiO_2粉体和 TiO_2薄膜制备方法 | 第26-27页 |
| 2．4 干燥溶胶的差热和热失重分析 | 第27页 |
| 2．5 粉体的 XRD分析 | 第27页 |
| 2．6 薄膜的表面形貌分析方法 | 第27页 |
| 2．7 薄膜光催化降解甲基橙溶液的试验 | 第27-28页 |
| 2．8 本章小结 | 第28-29页 |
| 第3章 Ag掺杂纳米 TiO_2粉体和薄膜的制备与表征 | 第29-44页 |
| 3．1 纳米 TiO_2和 Ag掺杂纳米 TiO_2粉体的制备与表征 | 第29-35页 |
| 3．1．1 纳米 TiO_2和 Ag掺杂 TiO_2粉体制备流程图 | 第29-30页 |
| 3．1．2 纳米 TiO_2和 Ag掺杂 TiO_2溶胶的制备 | 第30-32页 |
| 3．1．3 TiO_2干凝胶和 Ag掺杂 TiO_2干凝胶的TG-DTA曲线 | 第32-33页 |
| 3．1．4 纳米 TiO_2和 Ag掺杂 TiO_2粉体的制备操作过程 | 第33-34页 |
| 3．1．5 TiO_2和 Ag掺杂的TiO_2粉体的XRD分析 | 第34-35页 |
| 3．2 纳米 TiO_2和 Ag掺杂纳米 TiO_2薄膜制备与表征 | 第35-43页 |
| 3．2．1 纳米 TiO_2薄膜和 Ag掺杂纳米 TiO_2薄膜工艺流程 | 第35-36页 |
| 3．2．2 浸渍-提拉法镀膜 | 第36-38页 |
| 3．2．3 薄膜的锻烧 | 第38页 |
| 3．2．4 TiO_2和 Ag掺杂的TiO_2薄膜的 SEM分析 | 第38-43页 |
| 3．3 本章小结 | 第43-44页 |
| 第4章 Ag掺杂 TiO_2薄膜光催化降解的试验研究 | 第44-50页 |
| 4．1 TiO_2薄膜光催化降解甲基橙溶液试验研究 | 第44-45页 |
| 4．1．1 煅烧温度对 TiO_2薄膜的光催化降解性能的影响 | 第44-45页 |
| 4．1．2 薄膜厚度对 TiO_2薄膜的光催化降解性能的影响 | 第45页 |
| 4．2 Ag掺杂 TiO_2薄膜光催化降解甲基橙溶液试验研究 | 第45-49页 |
| 4．2．1 煅烧温度对 Ag掺杂 TiO_2薄膜光催化降解性能的影响 | 第46页 |
| 4．2．2 Ag掺杂量对 TiO_2薄膜光催化降解性能的影响 | 第46-47页 |
| 4．2．3 薄膜厚度对 Ag掺杂 TiO_2薄膜光催化降解性能的影响 | 第47-48页 |
| 4．2．4 薄膜降解效果重复使用性 | 第48-49页 |
| 4．3 本章小结 | 第49-50页 |
| 结论 | 第50-51页 |
| 参考文献 | 第51-55页 |
| 攻读硕士学位期间发表的学术论文 | 第55-56页 |
| 致谢 | 第56页 |
