| 第一章 前言 | 第1-19页 |
| ·纳米材料的发展历史和基本特性 | 第8-12页 |
| ·ZnO宽禁带半导体材料的研究现状和意义 | 第12-13页 |
| ·铝阳极氧化研究的回顾和展望 | 第13-16页 |
| ·有序介孔组装体系的研究进展 | 第16-18页 |
| ·本文的工作 | 第18-19页 |
| 第二章 多孔AL_2O_3膜的生成机理和ZnO的发光机制 | 第19-27页 |
| ·多孔氧化铝膜的结构和形成机理 | 第19-22页 |
| ·ZnO的晶格结构和发光机制 | 第22-27页 |
| 第三章 样品的制备和测试 | 第27-33页 |
| ·多孔型阳极氧化铝膜的制备 | 第27-31页 |
| ·ZnO溶胶-凝胶的制备 | 第31-32页 |
| ·采用溶胶-凝胶法在多孔AL_2O_3模板内合成纳米ZnO发光材料 | 第32页 |
| ·测试仪器 | 第32-33页 |
| 第四章 实验结果和讨论 | 第33-50页 |
| ·多孔氧化铝膜的结构和形貌 | 第33-35页 |
| ·多孔氧化铝膜的生长规律 | 第35-42页 |
| ·ZnO络合物结构分析 | 第42-44页 |
| ·纳米ZnO在多孔阳极氧化铝模板内的发光特性 | 第44-50页 |
| 第五章 结论 | 第50-52页 |
| 参考文献 | 第52-57页 |
| 发表论文和科研情况说明 | 第57-58页 |
| 致谢 | 第58页 |