第一章 绪 论 | 第1-32页 |
·多层薄膜概况 | 第13-19页 |
·多层薄膜的超晶格结构 | 第13-16页 |
·多层薄膜的性能 | 第16-19页 |
·软x射线多层薄膜研究概况 | 第19-25页 |
·软x射线多层薄膜研究进展 | 第19-21页 |
·软x射线多层膜研究关键技术 | 第21-24页 |
·软x射线多层膜的应用 | 第24-25页 |
·磁光记录多层薄膜研究概况 | 第25-30页 |
·磁光记录技术特点 | 第25-26页 |
·磁光记录原理 | 第26-27页 |
·磁光多层膜结构 | 第27-29页 |
·磁光记录器件及应用 | 第29-30页 |
·问题的提出及论文主要思路 | 第30-32页 |
第二章 多层薄膜实验系统 | 第32-47页 |
·溅射靶材 | 第32-34页 |
·金属多层薄膜靶材 | 第32-33页 |
·磁光多层薄膜靶材 | 第33-34页 |
·多层薄膜溅射方法 | 第34-36页 |
·引言 | 第34-35页 |
·金属多层薄膜溅射系统 | 第35页 |
·磁光多层薄膜溅射系统 | 第35-36页 |
·多层膜软x射线反射率测试方法 | 第36-39页 |
·多层膜软x射线反射率 | 第36-37页 |
·同步辐射软x光反射率测试方法 | 第37-39页 |
·紫外光反射率测试 | 第39-40页 |
·磁光特性测试方法 | 第40-41页 |
·多层薄膜结构分析方法 | 第41-47页 |
·小角X射线分析方法 | 第41-43页 |
·TEM结构分析 | 第43-45页 |
·AFM表面形貌分析 | 第45页 |
·可靠性测试 | 第45-46页 |
·薄膜厚度与光学性能测试 | 第46-47页 |
第三章 光学多层薄膜制备 | 第47-69页 |
·金属多层薄膜制备 | 第47-55页 |
·金属多层膜设计方法 | 第47-49页 |
·薄膜溅射速率测定与控制 | 第49-54页 |
·金属多层薄膜膜层厚度控制 | 第54-55页 |
·Ti/Cu、Nb/Cu、Mo/Si金属多层薄膜制备 | 第55-57页 |
·溅射工艺参数确定 | 第55-56页 |
·金属多层薄膜制备 | 第56-57页 |
·磁光多层薄膜制备方法 | 第57-67页 |
·磁光记录薄膜制备方法 | 第57-62页 |
·磁光介质薄膜制备方法 | 第62-67页 |
·磁光反射层薄膜制备方法 | 第67页 |
·本章小结 | 第67-69页 |
第四章 金属多层薄膜结构与性能研究 | 第69-92页 |
·Ti/Cu金属多层薄膜结构分析 | 第69-82页 |
·Ti/Cu金属多层薄膜层状结构分析 | 第69-73页 |
·Ti/Cu金属多层膜X射线衍射分析 | 第73-74页 |
·Ti/Cu金属多层薄膜小角X射线分析 | 第74-78页 |
·Ti/Cu金属多层薄膜表面粗糙度分析 | 第78-82页 |
·Nb/Cu金属多层薄膜结构分析 | 第82-84页 |
·Nb/Cu金属多层薄膜的X射线结构分析 | 第82-83页 |
·Nb/Cu金属多层薄膜表面与界面分析 | 第83-84页 |
·金属多层薄膜的光学反射特性研究 | 第84-87页 |
·Mo/Si金属多层膜软x射线反射率 | 第84-86页 |
·Ti/Cu超晶格多层膜软x射线和紫外线反射率 | 第86-87页 |
·金属多层薄膜透射电镜结构分析 | 第87-90页 |
·本章小结 | 第90-92页 |
第五章 磁光多层薄膜结构与性能 | 第92-108页 |
·磁光多层薄膜膜层特性及磁光性能 | 第92-102页 |
·磁光记录层制备及磁光性能 | 第92-98页 |
·光学介质层制备及性能 | 第98-101页 |
·光学反射层制备工艺 | 第101-102页 |
·磁光多层薄膜结构与磁光性能关系研究 | 第102-106页 |
·磁光多层薄膜膜层结构 | 第102页 |
·磁光多层膜膜层匹配与磁光性能关系 | 第102-106页 |
·本章小结 | 第106-108页 |
第六章 磁光多层薄膜器件及应用 | 第108-117页 |
·磁光多层薄膜器件 | 第108页 |
·磁光盘性能指标 | 第108-109页 |
·磁光盘可靠性分析 | 第109-116页 |
·单层结构磁光薄膜可靠性 | 第109页 |
·磁光多层薄膜可靠性 | 第109-111页 |
·磁光盘可靠性研究 | 第111-115页 |
·磁光盘疲劳特性研究 | 第115页 |
·磁光盘信息保持特性 | 第115-116页 |
·本章小结 | 第116-117页 |
结 论 | 第117-119页 |
参考文献 | 第119-127页 |
致 谢 | 第127-128页 |
博士期间已发表和待发表论文 | 第128页 |