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光学多层薄膜结构及磁光性能研究

第一章 绪  论第1-32页
   ·多层薄膜概况第13-19页
     ·多层薄膜的超晶格结构第13-16页
     ·多层薄膜的性能第16-19页
   ·软x射线多层薄膜研究概况第19-25页
     ·软x射线多层薄膜研究进展第19-21页
     ·软x射线多层膜研究关键技术第21-24页
     ·软x射线多层膜的应用第24-25页
   ·磁光记录多层薄膜研究概况第25-30页
     ·磁光记录技术特点第25-26页
     ·磁光记录原理第26-27页
     ·磁光多层膜结构第27-29页
     ·磁光记录器件及应用第29-30页
   ·问题的提出及论文主要思路第30-32页
第二章 多层薄膜实验系统第32-47页
   ·溅射靶材第32-34页
     ·金属多层薄膜靶材第32-33页
     ·磁光多层薄膜靶材第33-34页
   ·多层薄膜溅射方法第34-36页
     ·引言第34-35页
     ·金属多层薄膜溅射系统第35页
     ·磁光多层薄膜溅射系统第35-36页
   ·多层膜软x射线反射率测试方法第36-39页
     ·多层膜软x射线反射率第36-37页
     ·同步辐射软x光反射率测试方法第37-39页
   ·紫外光反射率测试第39-40页
   ·磁光特性测试方法第40-41页
   ·多层薄膜结构分析方法第41-47页
     ·小角X射线分析方法第41-43页
     ·TEM结构分析第43-45页
     ·AFM表面形貌分析第45页
     ·可靠性测试第45-46页
     ·薄膜厚度与光学性能测试第46-47页
第三章 光学多层薄膜制备第47-69页
   ·金属多层薄膜制备第47-55页
     ·金属多层膜设计方法第47-49页
     ·薄膜溅射速率测定与控制第49-54页
     ·金属多层薄膜膜层厚度控制第54-55页
   ·Ti/Cu、Nb/Cu、Mo/Si金属多层薄膜制备第55-57页
     ·溅射工艺参数确定第55-56页
     ·金属多层薄膜制备第56-57页
   ·磁光多层薄膜制备方法第57-67页
     ·磁光记录薄膜制备方法第57-62页
     ·磁光介质薄膜制备方法第62-67页
     ·磁光反射层薄膜制备方法第67页
   ·本章小结第67-69页
第四章 金属多层薄膜结构与性能研究第69-92页
   ·Ti/Cu金属多层薄膜结构分析第69-82页
     ·Ti/Cu金属多层薄膜层状结构分析第69-73页
     ·Ti/Cu金属多层膜X射线衍射分析第73-74页
     ·Ti/Cu金属多层薄膜小角X射线分析第74-78页
     ·Ti/Cu金属多层薄膜表面粗糙度分析第78-82页
   ·Nb/Cu金属多层薄膜结构分析第82-84页
     ·Nb/Cu金属多层薄膜的X射线结构分析第82-83页
     ·Nb/Cu金属多层薄膜表面与界面分析第83-84页
   ·金属多层薄膜的光学反射特性研究第84-87页
     ·Mo/Si金属多层膜软x射线反射率第84-86页
     ·Ti/Cu超晶格多层膜软x射线和紫外线反射率第86-87页
   ·金属多层薄膜透射电镜结构分析第87-90页
   ·本章小结第90-92页
第五章 磁光多层薄膜结构与性能第92-108页
   ·磁光多层薄膜膜层特性及磁光性能第92-102页
     ·磁光记录层制备及磁光性能第92-98页
     ·光学介质层制备及性能第98-101页
     ·光学反射层制备工艺第101-102页
   ·磁光多层薄膜结构与磁光性能关系研究第102-106页
     ·磁光多层薄膜膜层结构第102页
     ·磁光多层膜膜层匹配与磁光性能关系第102-106页
   ·本章小结第106-108页
第六章 磁光多层薄膜器件及应用第108-117页
   ·磁光多层薄膜器件第108页
   ·磁光盘性能指标第108-109页
   ·磁光盘可靠性分析第109-116页
     ·单层结构磁光薄膜可靠性第109页
     ·磁光多层薄膜可靠性第109-111页
     ·磁光盘可靠性研究第111-115页
     ·磁光盘疲劳特性研究第115页
     ·磁光盘信息保持特性第115-116页
   ·本章小结第116-117页
结  论第117-119页
参考文献第119-127页
致  谢第127-128页
博士期间已发表和待发表论文第128页

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