离子束溅射法制备C-N薄膜的研究
| 中文摘要 | 第1-5页 |
| 英文摘要 | 第5-7页 |
| 物理量名称及符号表 | 第7-11页 |
| 第1章 绪论 | 第11-27页 |
| 1．1 理论预言 | 第11-18页 |
| 1．1．1 β-C_3N_4的理论预言 | 第12-15页 |
| 1．1．2 C_3N_4晶体结构的理论预测 | 第15-18页 |
| 1．2 β-C_3N_4制备的实验探索 | 第18-24页 |
| 1．2．1 高温高压合成法 | 第19-20页 |
| 1．2．2 激光烧蚀反应法 | 第20页 |
| 1．2．3 溅射法 | 第20-21页 |
| 1．2．4 等离子体化学气相沉积 | 第21-22页 |
| 1．2．5 离子注入法 | 第22-23页 |
| 1．2．6 有机溶液电解法 | 第23-24页 |
| 1．3 β-C_3N_4的性能与应用前景 | 第24-25页 |
| 1．4 有待解决的问题 | 第25页 |
| 1．5 本课题研究重点 | 第25-27页 |
| 第2章 实验装置及方法 | 第27-33页 |
| 2．1 实验装置 | 第27-28页 |
| 2．1．1 溅射装置 | 第27-28页 |
| 2．1．2 法拉第探头 | 第28页 |
| 2．2 实验方法 | 第28-32页 |
| 2．2．1 离子源溅射特性实验 | 第28-30页 |
| 2．2．2 薄膜的制备 | 第30-32页 |
| 2．3 分析方法 | 第32页 |
| 2．3．1 成分分析 | 第32页 |
| 2．3．2 透射电子显微镜分析 | 第32页 |
| 2．3．3 X射线衍射分析 | 第32页 |
| 2．3．4 X射线光电子能谱分析 | 第32页 |
| 2．4 本章小结 | 第32-33页 |
| 第3章 离子源溅射特性的研究 | 第33-52页 |
| 3．1 离子源的结构及原理 | 第33-38页 |
| 3．1．1 Kaufman离子源的结构及原理 | 第33-34页 |
| 3．1．2 离子光学系统 | 第34-36页 |
| 3．1．3 离子束流密度 | 第36-38页 |
| 3．1．4 束散角 | 第38页 |
| 3．2 离子束溅射过程 | 第38-39页 |
| 3．3 离子束聚焦性的研究 | 第39-43页 |
| 3．3．1 离子枪的工作参数对离子束聚焦性的影响 | 第39-40页 |
| 3．3．2 溅射气压对离子束聚焦性的影响 | 第40-43页 |
| 3．4 离子束束流密度的研究 | 第43-49页 |
| 3．4．1 阴极电流和阳极电压对束流密度的影响 | 第44-45页 |
| 3．4．2 屏极电压对束流密度的影响 | 第45页 |
| 3．4．3 加速电压对束流密度的影响 | 第45页 |
| 3．4．4 溅射气压对束流密度的影响 | 第45-49页 |
| 3．5 入射角对束流密度的影响 | 第49页 |
| 3．6 本章小结 | 第49-52页 |
| 第4章 TiN_y薄膜的研究 | 第52-60页 |
| 4．1 C_3N_4和TiN的晶格匹配性 | 第52-53页 |
| 4．2 TiN_y薄膜的结构分析 | 第53-59页 |
| 4．2．1 离子束能量对TiN_y薄膜结构的影响 | 第54-55页 |
| 4．2．2 离子束束流对TiN_y薄膜结构的影响 | 第55页 |
| 4．2．3 温度对TiN_y薄膜结构的影响 | 第55-59页 |
| 4．3 TiN_y薄膜的成分分析 | 第59页 |
| 4．4 本章小结 | 第59-60页 |
| 第5章 CN_x／TiN_y薄膜的研究 | 第60-80页 |
| 5．1 CN_x／TiN_y薄膜的成分分析 | 第60-67页 |
| 5．1．1 入射离子束对薄膜成分的影响 | 第60-64页 |
| 5．1．2 温度对薄膜成分的影响 | 第64-65页 |
| 5．1．3 辅助离子束对薄膜成分的影响 | 第65-67页 |
| 5．2 CN_x／TiN_y薄膜的透射电镜分析 | 第67-75页 |
| 5．3 CN_x／TiN_y薄膜的X射线衍射分析 | 第75-76页 |
| 5．4 CN_x／TiN_y薄膜的价键结构分析 | 第76-79页 |
| 5．5 本章小结 | 第79-80页 |
| 结论 | 第80-81页 |
| 参考文献 | 第81-87页 |
| 攻读硕士学位期间所发表的论文 | 第87-88页 |
| 致谢 | 第88页 |
