硼氧共掺杂金刚石薄膜的微结构和电学性能研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-20页 |
| ·引言 | 第10页 |
| ·金刚石的性质 | 第10-12页 |
| ·力学性质 | 第10-11页 |
| ·化学和热学性质 | 第11页 |
| ·光学和声学性质 | 第11页 |
| ·电学性质 | 第11-12页 |
| ·金刚石薄膜掺杂的研究进展 | 第12-18页 |
| ·CVD金刚石薄膜的生长过程中掺杂 | 第13-16页 |
| ·硼掺杂 | 第13-14页 |
| ·磷掺杂 | 第14页 |
| ·氮掺杂 | 第14-15页 |
| ·硫掺杂 | 第15-16页 |
| ·锂掺杂 | 第16页 |
| ·共掺杂方法 | 第16-17页 |
| ·离子注入法掺杂 | 第17-18页 |
| ·问题的提出与本文研究内容 | 第18-20页 |
| 第二章 本征金刚石薄膜的硼氧离子共注入 | 第20-37页 |
| ·引言 | 第20页 |
| ·实验 | 第20-23页 |
| ·CVD金刚石实验装置及硅衬底的预处理 | 第20-21页 |
| ·本征金刚石薄膜的制备 | 第21-22页 |
| ·离子注入及退火方案 | 第22-23页 |
| ·硼氧离子共注入本征金刚石薄膜的表征 | 第23-36页 |
| ·硼氧离子共注入本征金刚石薄膜的微结构表征 | 第23-32页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM)测试 | 第23-24页 |
| ·原子力显微镜(AFM)测试 | 第24-25页 |
| ·X射线衍射(XRD)测试 | 第25-26页 |
| ·激光拉曼光谱(Raman)测试 | 第26-29页 |
| ·X射线光电子能谱(XPS)测试 | 第29-32页 |
| ·金刚石薄膜的电学性能表征 | 第32-36页 |
| ·Hall效应测试 | 第32-33页 |
| ·四探针法电阻率测试 | 第33-35页 |
| ·变温两探针法电阻测试 | 第35-36页 |
| ·本章小结 | 第36-37页 |
| 第三章 低硼金刚石薄膜的氧离子注入掺杂 | 第37-53页 |
| ·引言 | 第37页 |
| ·实验 | 第37-38页 |
| ·低硼金刚石薄膜的制备 | 第37-38页 |
| ·离子注入及退火方案 | 第38页 |
| ·氧离子注入低硼金刚石薄膜的表征 | 第38-52页 |
| ·氧离子注入低硼金刚石薄膜微结构表征 | 第38-48页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM)测试 | 第38-40页 |
| ·原子力显微镜(AFM)测试 | 第40-42页 |
| ·X射线衍射(XRD)测试 | 第42-44页 |
| ·激光拉曼光谱(Raman)测试 | 第44-46页 |
| ·X射线光电子能谱(XPS)测试 | 第46-48页 |
| ·氧离子注入低硼金刚石薄膜的电学性能表征 | 第48-52页 |
| ·Hall效应测试 | 第48-49页 |
| ·四探针法电阻率测试 | 第49-50页 |
| ·变温两探针电阻测试 | 第50-52页 |
| ·本章小结 | 第52-53页 |
| 第四章 高硼金刚石薄膜的氧离子注入掺杂 | 第53-63页 |
| ·引言 | 第53页 |
| ·实验 | 第53-54页 |
| ·高硼金刚石薄膜的制备 | 第53-54页 |
| ·离子注入及退火方案 | 第54页 |
| ·氧离子注入高硼金刚石薄膜的表征 | 第54-62页 |
| ·氧离子注入高硼金刚石薄膜的微结构表征 | 第54-59页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM)测试 | 第54-56页 |
| ·X射线衍射(XRD)测试 | 第56-58页 |
| ·激光拉曼光谱(Raman)测试 | 第58-59页 |
| ·高硼金刚石薄膜的电学性能表征 | 第59-62页 |
| ·Hall效应测试 | 第59-60页 |
| ·变温两探针法电阻测试 | 第60-62页 |
| ·本章小结 | 第62-63页 |
| 第五章 结论 | 第63-65页 |
| 本文创新点 | 第65-66页 |
| 参考文献 | 第66-73页 |
| 致谢 | 第73-74页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文目录 | 第74页 |
