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4H-SiC SAM-APD结构紫外探测器的研究

摘要第1-4页
Abstract第4-7页
第一章 绪论第7-13页
   ·紫外APD概述第7-8页
   ·4H-SiC材料基本特性第8-10页
     ·4H-SiC材料的生长与缺陷第8页
     ·4H-SiC的电学性质第8-9页
     ·4H-SiC材料的光学性质第9页
     ·电子漂移速度第9页
     ·4H-SiC材料与其它材料APD的对比第9-10页
   ·4H-SiC APD研究现状第10-12页
   ·本文的主要工作第12-13页
第二章 紫外探测器的理论基础和光特性研究第13-25页
   ·光电探测器原理第13-16页
     ·PN紫外光电二极管原理第13页
     ·PIN结构紫外探测器原理第13-14页
     ·APD的工作原理第14-15页
     ·SAM结构原理第15-16页
   ·光电探测器的主要参数及指标第16-23页
     ·光谱响应第16-17页
     ·暗电流第17-18页
     ·光电转换效率第18-20页
     ·探测器与信噪比第20-21页
     ·APD的雪崩倍增噪声第21-22页
     ·噪声等效功率(NEP)第22页
     ·归一化探测率D*第22-23页
   ·本章小结第23-25页
第三章 SAM-APD结构模型及特性模拟第25-37页
   ·SAM-APD的物理模型第25-31页
     ·漂移-扩散模型第25-26页
     ·迁移率模型第26页
     ·复合模型第26-28页
     ·不完全离化模型第28-29页
     ·光产生模型第29-30页
     ·4H-SiC吸收系数第30-31页
   ·SAM-APD结构设计第31-32页
   ·SAM-APD基本特性的模拟仿真第32-36页
     ·暗电流特性及反向伏安特性第32-34页
     ·光谱响应第34-36页
   ·本章小结第36-37页
第四章 SAM-APD紫外探测器各层厚度研究与结构改进第37-48页
   ·SAM-APD各层厚度对光电响应度的影响第37-43页
     ·SAM-APD各层厚度变化的基本研究第37-40页
     ·SAM-APD各外延层厚度对响应度影响的正交分析第40-43页
   ·改进型SAM-APD光谱响应的研究第43-44页
   ·改进型结构SAM-APD的版图与工艺流程研究第44-47页
     ·改进型结构SAM-APD的版图与工艺流程设计第44-45页
     ·工艺中存在的问题及改进设想第45-47页
   ·本章小结第47-48页
第五章 结束语第48-50页
致谢第50-51页
参考文献第51-54页
攻读硕士学位期间参加的科研项目、完成的学术论文情况第54-55页

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