| 摘要 | 第3-5页 |
| abstract | 第5-6页 |
| 1 绪论 | 第9-27页 |
| 1.1 引言 | 第9-10页 |
| 1.2 铜铬锆合金的研究 | 第10-12页 |
| 1.2.1 铜铬锆合金的特点及应用 | 第10-11页 |
| 1.2.2 铜铬锆合金的制备及组织性能研究 | 第11-12页 |
| 1.3 铜合金的应力腐蚀 | 第12-19页 |
| 1.3.1 铜及铜合金的应力腐蚀研究现状 | 第12-13页 |
| 1.3.2 应力腐蚀机理 | 第13-15页 |
| 1.3.3 铜合金应力腐蚀开裂特点 | 第15-16页 |
| 1.3.4 铜合金应力腐蚀开裂的影响因素 | 第16-18页 |
| 1.3.5 材料应力腐蚀特点 | 第18-19页 |
| 1.4 铜合金电化学腐蚀 | 第19-23页 |
| 1.4.1 电化学影响因素 | 第20-21页 |
| 1.4.2 电化学分析手段 | 第21-23页 |
| 1.5 超细晶材料的腐蚀 | 第23-24页 |
| 1.6 论文研究意义及研究内容 | 第24-27页 |
| 2 实验材料及研究方法 | 第27-33页 |
| 2.1 实验材料 | 第27页 |
| 2.2 技术路线 | 第27-28页 |
| 2.3 试样制备 | 第28-30页 |
| 2.3.1 材料制备 | 第28页 |
| 2.3.2 电化学试样制备 | 第28-29页 |
| 2.3.3 应力腐蚀试样准备 | 第29-30页 |
| 2.4 电化学实验测定 | 第30-31页 |
| 2.4.1 电化学实验所用仪器 | 第30页 |
| 2.4.2 测试参数 | 第30-31页 |
| 2.5 应力腐蚀实验 | 第31-32页 |
| 2.5.1 实验室仪器 | 第31页 |
| 2.5.2 测定方法 | 第31-32页 |
| 2.6 对比实验设计 | 第32页 |
| 2.7 断口形貌及X射线衍射分析 | 第32-33页 |
| 3 NaCl溶液中铜铬锆合金的腐蚀性能 | 第33-47页 |
| 3.1 微观组织分析 | 第33-34页 |
| 3.2 电化学腐蚀 | 第34-40页 |
| 3.2.1 Tafel极化曲线 | 第34-36页 |
| 3.2.2 电化学阻抗 | 第36-40页 |
| 3.3 应变速率对应力腐蚀的影响 | 第40-41页 |
| 3.4 不同Cl~-浓度下超细晶铜的应力腐蚀 | 第41-46页 |
| 3.4.1 SCC与Cl~-离子之间的关系 | 第42-43页 |
| 3.4.2 加工硬化 | 第43-44页 |
| 3.4.3 应力腐蚀机理 | 第44-46页 |
| 3.5 本章小结 | 第46-47页 |
| 4 腐蚀液环境对铜铬锆合金腐蚀性能的影响 | 第47-67页 |
| 4.1 NaNO_2溶液中的腐蚀性能 | 第47-55页 |
| 4.1.1 Tafel曲线 | 第47-48页 |
| 4.1.2 电化学阻抗 | 第48-49页 |
| 4.1.3 粗晶和超细晶的慢应变拉伸 | 第49-51页 |
| 4.1.4 热处理制度对应力腐蚀的影响 | 第51-52页 |
| 4.1.5 腐蚀机理分析 | 第52-55页 |
| 4.2 HPO_4~(2-)对铜铬锆合金的影响 | 第55-60页 |
| 4.2.1 不同浓度下MS溶液的极化曲线 | 第55-56页 |
| 4.2.2 电化学阻抗 | 第56-57页 |
| 4.2.3 不同MS溶液浓度的应力-应变曲线 | 第57-58页 |
| 4.2.4 腐蚀机理分析 | 第58-60页 |
| 4.3 铜铬锆合金在不同腐蚀液环境下的研究 | 第60-64页 |
| 4.3.1 Tafel极化曲线 | 第60-61页 |
| 4.3.2 电化学阻抗 | 第61-62页 |
| 4.3.3 铜铬锆合金在不同腐蚀液环境下的应力腐蚀 | 第62-64页 |
| 4.4 本章小结 | 第64-67页 |
| 5 结论 | 第67-69页 |
| 参考文献 | 第69-77页 |
| 攻读硕士期间发表的学术论文及成果 | 第77-79页 |
| 致谢 | 第79页 |