| 摘要 | 第5-6页 |
| abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-19页 |
| 1.1 太赫兹波背景及应用 | 第10-11页 |
| 1.2 太赫兹调控技术简介 | 第11-14页 |
| 1.3 太赫兹成像技术简介 | 第14-15页 |
| 1.4 黑硅简介 | 第15-17页 |
| 1.5 论文研究内容 | 第17-19页 |
| 第二章 黑硅的制备 | 第19-28页 |
| 2.1 微米金字塔结构制备与表征 | 第19-23页 |
| 2.1.1 碱性刻蚀机理 | 第19页 |
| 2.1.2 制备流程 | 第19-20页 |
| 2.1.3 形貌表征 | 第20-23页 |
| 2.2 微纳混合结构制备与表征 | 第23-25页 |
| 2.2.1 酸法刻蚀机理 | 第23-24页 |
| 2.2.2 制备流程 | 第24页 |
| 2.2.3 形貌表征 | 第24-25页 |
| 2.3 黑硅光学性能测试 | 第25-27页 |
| 2.4 本章小结 | 第27-28页 |
| 第三章 黑硅结构光控太赫兹调制器性能研究 | 第28-43页 |
| 3.1 光控半导体硅的调制技术研究 | 第28-30页 |
| 3.1.1 光控半导体硅的调制机理 | 第28页 |
| 3.1.2 基于太赫兹时域光谱系统的调制平台简介 | 第28-30页 |
| 3.2 金字塔结构光控太赫兹调制性能研究 | 第30-36页 |
| 3.2.1 808nm激光作用下的时域谱 | 第30-31页 |
| 3.2.2 808nm激光作用下的频域谱 | 第31-32页 |
| 3.2.3 808nm激光作用下的透射谱 | 第32页 |
| 3.2.4 638nm激光作用下的时域谱 | 第32-33页 |
| 3.2.5 638nm激光作用下的频域谱 | 第33-34页 |
| 3.2.6 638nm激光作用下的透射谱 | 第34-35页 |
| 3.2.7 808nm激光与638nm激光作用下调制性能分析 | 第35-36页 |
| 3.3 微纳混合结构光控太赫兹调制性能研究 | 第36-37页 |
| 3.4 周期金字塔结构光控太赫兹调制性能研究 | 第37-39页 |
| 3.5 动态调制速率研究 | 第39-42页 |
| 3.6 本章小结 | 第42-43页 |
| 第四章 减反结构理论计算分析 | 第43-52页 |
| 4.1 理论计算模型 | 第43-45页 |
| 4.2 计算结果分析 | 第45-47页 |
| 4.3 周期金字塔结构仿真 | 第47-51页 |
| 4.4 本章小结 | 第51-52页 |
| 第五章 基于黑硅空间光调制器的太赫兹成像系统 | 第52-66页 |
| 5.1 空间光调制器 | 第52-54页 |
| 5.1.1 液晶空间光调制器 | 第52-53页 |
| 5.1.2 数字微镜空间光调制器 | 第53-54页 |
| 5.2 基于黑硅空间光调制器的太赫兹成像系统工作原理 | 第54-57页 |
| 5.3 基于黑硅空间光调制器的太赫兹成像系统搭建与测试 | 第57-65页 |
| 5.3.1 调制器的选择 | 第57-59页 |
| 5.3.2 成像测试结果分析 | 第59-65页 |
| 5.4 本章小结 | 第65-66页 |
| 第六章 全文总结与展望 | 第66-68页 |
| 6.1 全文总结 | 第66-67页 |
| 6.2 展望 | 第67-68页 |
| 致谢 | 第68-69页 |
| 参考文献 | 第69-73页 |
| 攻读硕士学位期间取得的成果 | 第73页 |
