低温预烧结制备红外高发射率陶瓷涂层的研究
摘要 | 第4-5页 |
Abstract | 第5页 |
第1章 绪论 | 第8-19页 |
1.1 红外辐射的基本原理 | 第8-11页 |
1.1.1 红外辐射的基本概念 | 第8-9页 |
1.1.2 红外辐射的重要规律 | 第9-11页 |
1.2 发射率 | 第11-12页 |
1.2.1 发射率的基本概念 | 第11页 |
1.2.2 发射率的影响因素 | 第11-12页 |
1.3 低温釉 | 第12-13页 |
1.3.1 低温釉的基本概念 | 第12页 |
1.3.2 影响低温釉性能的因素 | 第12-13页 |
1.4 涂层的应用和研究进展 | 第13-17页 |
1.4.1 低温釉涂料的应用和研究进展 | 第13-15页 |
1.4.2 高发射率涂料的应用与研究进展 | 第15-17页 |
1.5 本文的主要研究内容及意义 | 第17-19页 |
1.5.1 研究意义 | 第17页 |
1.5.2 主要研究内容 | 第17-19页 |
第2章 实验材料与方法 | 第19-24页 |
2.1 实验试剂 | 第19页 |
2.2 实验仪器与设备 | 第19-20页 |
2.3 实验方法原理选择 | 第20-21页 |
2.3.1 材料成分选择 | 第20-21页 |
2.3.2 涂覆工艺的选择 | 第21页 |
2.4 实验分析方法及表征 | 第21-24页 |
2.4.1 红外光谱分析(FTIR) | 第21页 |
2.4.2 X射线衍射分析(XRD) | 第21-22页 |
2.4.3 抗热震性能测试 | 第22页 |
2.4.4 辐射性能测试 | 第22页 |
2.4.5 扫描电子显微镜(SEM-EDS) | 第22-23页 |
2.4.6 隔热性能测试 | 第23-24页 |
第3章 过渡层的制备与性能研究 | 第24-40页 |
3.1 引言 | 第24页 |
3.2 POSS溶胶的制备及表征 | 第24-28页 |
3.2.1 POSS溶胶的制备 | 第24-25页 |
3.2.2 POSS溶胶的红外表征 | 第25-28页 |
3.3 过渡层的配比研究 | 第28-39页 |
3.4 本章小结 | 第39-40页 |
第4章 低温釉的制备及性能测试 | 第40-53页 |
4.1 引言 | 第40页 |
4.2 低温釉的制备与性能表征 | 第40-44页 |
4.2.1 低温釉的原料及其表征 | 第41-43页 |
4.2.2 粘结剂的选择 | 第43-44页 |
4.2.3 低温釉的制备及工艺流程 | 第44页 |
4.3 低温釉料的配比及其表征 | 第44-52页 |
4.4 本章小结 | 第52-53页 |
第5章 高发射涂料的制备及性能测试 | 第53-70页 |
5.1 引言 | 第53页 |
5.2 高发射涂料的制备与性能表征 | 第53-56页 |
5.3 高发射涂料的制备及工艺流程 | 第56页 |
5.4 高发射涂料的配比及其表征 | 第56-58页 |
5.5 涂层涂料的微观形貌表征 | 第58-69页 |
5.6 本章小结 | 第69-70页 |
第6章 高发射涂层的性能测试 | 第70-77页 |
6.1 引言 | 第70页 |
6.2 隔热性能实验测试 | 第70-71页 |
6.3 抗热震性能实验测试 | 第71-72页 |
6.4 红外辐射性能测试 | 第72-75页 |
6.5 XRD性能表征 | 第75-76页 |
6.6 本章小结 | 第76-77页 |
结论 | 第77-78页 |
参考文献 | 第78-83页 |
致谢 | 第83页 |