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低温预烧结制备红外高发射率陶瓷涂层的研究

摘要第4-5页
Abstract第5页
第1章 绪论第8-19页
    1.1 红外辐射的基本原理第8-11页
        1.1.1 红外辐射的基本概念第8-9页
        1.1.2 红外辐射的重要规律第9-11页
    1.2 发射率第11-12页
        1.2.1 发射率的基本概念第11页
        1.2.2 发射率的影响因素第11-12页
    1.3 低温釉第12-13页
        1.3.1 低温釉的基本概念第12页
        1.3.2 影响低温釉性能的因素第12-13页
    1.4 涂层的应用和研究进展第13-17页
        1.4.1 低温釉涂料的应用和研究进展第13-15页
        1.4.2 高发射率涂料的应用与研究进展第15-17页
    1.5 本文的主要研究内容及意义第17-19页
        1.5.1 研究意义第17页
        1.5.2 主要研究内容第17-19页
第2章 实验材料与方法第19-24页
    2.1 实验试剂第19页
    2.2 实验仪器与设备第19-20页
    2.3 实验方法原理选择第20-21页
        2.3.1 材料成分选择第20-21页
        2.3.2 涂覆工艺的选择第21页
    2.4 实验分析方法及表征第21-24页
        2.4.1 红外光谱分析(FTIR)第21页
        2.4.2 X射线衍射分析(XRD)第21-22页
        2.4.3 抗热震性能测试第22页
        2.4.4 辐射性能测试第22页
        2.4.5 扫描电子显微镜(SEM-EDS)第22-23页
        2.4.6 隔热性能测试第23-24页
第3章 过渡层的制备与性能研究第24-40页
    3.1 引言第24页
    3.2 POSS溶胶的制备及表征第24-28页
        3.2.1 POSS溶胶的制备第24-25页
        3.2.2 POSS溶胶的红外表征第25-28页
    3.3 过渡层的配比研究第28-39页
    3.4 本章小结第39-40页
第4章 低温釉的制备及性能测试第40-53页
    4.1 引言第40页
    4.2 低温釉的制备与性能表征第40-44页
        4.2.1 低温釉的原料及其表征第41-43页
        4.2.2 粘结剂的选择第43-44页
        4.2.3 低温釉的制备及工艺流程第44页
    4.3 低温釉料的配比及其表征第44-52页
    4.4 本章小结第52-53页
第5章 高发射涂料的制备及性能测试第53-70页
    5.1 引言第53页
    5.2 高发射涂料的制备与性能表征第53-56页
    5.3 高发射涂料的制备及工艺流程第56页
    5.4 高发射涂料的配比及其表征第56-58页
    5.5 涂层涂料的微观形貌表征第58-69页
    5.6 本章小结第69-70页
第6章 高发射涂层的性能测试第70-77页
    6.1 引言第70页
    6.2 隔热性能实验测试第70-71页
    6.3 抗热震性能实验测试第71-72页
    6.4 红外辐射性能测试第72-75页
    6.5 XRD性能表征第75-76页
    6.6 本章小结第76-77页
结论第77-78页
参考文献第78-83页
致谢第83页

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