| 摘要 | 第5-7页 |
| ABSTRACT | 第7-9页 |
| 第一章 绪论 | 第14-42页 |
| 1.1 引言 | 第14-16页 |
| 1.2 光电化学阴极保护技术简介 | 第16-24页 |
| 1.2.1 金属防腐蚀技术 | 第16-21页 |
| 1.2.2 光电化学阴极保护原理 | 第21-24页 |
| 1.3 光电化学阴极保护技术研究进展 | 第24-30页 |
| 1.3.1 TiO_2基半导体材料 | 第24-26页 |
| 1.3.2 其它半导体材料 | 第26-28页 |
| 1.3.3 复合材料 | 第28-30页 |
| 1.4 g-C_3N_4材料研究进展及改性思路 | 第30-39页 |
| 1.4.1 g-C_3N_4的基本性质 | 第30-32页 |
| 1.4.2 微观形貌调整 | 第32-34页 |
| 1.4.3 元素掺杂 | 第34-36页 |
| 1.4.4 不同半导体复合 | 第36-39页 |
| 1.5 选题意义与研究内容 | 第39-42页 |
| 1.5.1 选题意义 | 第39-40页 |
| 1.5.2 研究目标与内容 | 第40-42页 |
| 第二章 二次还原氧化石墨烯修饰g-C_3N_4材料 | 第42-61页 |
| 2.1 引言 | 第42-44页 |
| 2.2 材料与方法 | 第44-49页 |
| 2.2.1 材料与试剂 | 第44-45页 |
| 2.2.2 仪器与设备 | 第45页 |
| 2.2.3 材料制备 | 第45-46页 |
| 2.2.4 材料表征 | 第46-47页 |
| 2.2.5 光电化学试验装置 | 第47页 |
| 2.2.6 光电化学阴极保护和光电化学实验 | 第47-49页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第49-59页 |
| 2.3.1 化学组成、表面形貌和光吸收性质分析 | 第49-53页 |
| 2.3.2 光电化学阴极保护性能分析 | 第53-54页 |
| 2.3.3 电化学和光电化学性能分析 | 第54-58页 |
| 2.3.4 石墨烯修饰导致的光电化学阴极保护性能提升机理分析 | 第58-59页 |
| 2.4 本章小结 | 第59-61页 |
| 第三章 钾和碘元素共掺杂g-C_3N_4材料 | 第61-79页 |
| 3.1 前言 | 第61-62页 |
| 3.2 材料与方法 | 第62-64页 |
| 3.2.1 材料与试剂 | 第62-63页 |
| 3.2.2 仪器与设备 | 第63页 |
| 3.2.3 制备方法 | 第63页 |
| 3.2.4 材料表征 | 第63-64页 |
| 3.2.5 光电化学试验装置 | 第64页 |
| 3.2.6 光电化学阴极保护和光电化学实验 | 第64页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第64-78页 |
| 3.3.1 化学组成、表面形貌和能带结构分析 | 第64-70页 |
| 3.3.2 光电化学阴极保护性能分析 | 第70-72页 |
| 3.3.3 电化学和光电化学性能分析 | 第72-73页 |
| 3.3.4 掺杂元素作用分析 | 第73-75页 |
| 3.3.5 掺杂形式、位置及性能提升机理分析 | 第75-78页 |
| 3.4 本章小结 | 第78-79页 |
| 第四章 CdS敏化纳米花状WO_3材料 | 第79-97页 |
| 4.1 引言 | 第79-81页 |
| 4.2 材料与方法 | 第81-83页 |
| 4.2.1 材料与试剂 | 第81页 |
| 4.2.2 仪器与设备 | 第81页 |
| 4.2.3 材料制备 | 第81-82页 |
| 4.2.4 材料表征 | 第82页 |
| 4.2.5 光电化学试验装置 | 第82页 |
| 4.2.6 光电化学阴极保护和光电化学实验 | 第82-83页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第83-96页 |
| 4.3.1 化学组成、表面形貌和光吸收性能分析 | 第83-87页 |
| 4.3.2 光电化学阴极保护性能分析 | 第87-90页 |
| 4.3.3 WO_3的储电子性能分析 | 第90-93页 |
| 4.3.4 电化学性能分析 | 第93-94页 |
| 4.3.5 光电化学阴极保护性能提升机理分析 | 第94-96页 |
| 4.4 本章小结 | 第96-97页 |
| 第五章 In_2S_3敏化ZnO纳米棒阵列 | 第97-109页 |
| 5.1 引言 | 第97-98页 |
| 5.2 材料与方法 | 第98-100页 |
| 5.2.1 材料与试剂 | 第98页 |
| 5.2.2 仪器与设备 | 第98页 |
| 5.2.3 材料制备 | 第98-99页 |
| 5.2.4 材料表征 | 第99页 |
| 5.2.5 光电化学试验装置 | 第99页 |
| 5.2.6 光电化学阴极保护和光电化学实验 | 第99-100页 |
| 5.3 结果与讨论 | 第100-108页 |
| 5.3.1 化学组成、表面形貌和光吸收性能分析 | 第100-104页 |
| 5.3.2 光电化学阴极保护性能测试 | 第104-107页 |
| 5.3.3 光电化学阴极保护性能提升机理分析 | 第107-108页 |
| 5.4 本章小结 | 第108-109页 |
| 第六章 结论及展望 | 第109-114页 |
| 6.1 结论 | 第109-111页 |
| 6.2 创新点 | 第111-112页 |
| 6.3 展望 | 第112-114页 |
| 参考文献 | 第114-129页 |
| 致谢 | 第129-130页 |
| 作者简历及攻读学位期间发表的学术论文与研究成果 | 第130-131页 |