| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6页 |
| 第1章 绪论 | 第9-23页 |
| 1.1 超亲水薄膜材料概述 | 第9-12页 |
| 1.1.1 表面浸润性 | 第9-11页 |
| 1.1.2 表面浸润性与自清洁材料的关系 | 第11-12页 |
| 1.2 TiO_2的结构及其特性 | 第12-13页 |
| 1.3 TiO_2研究的发展历程 | 第13-14页 |
| 1.4 TiO_2的超亲水性 | 第14-21页 |
| 1.4.1 TiO_2超亲水性机理 | 第14-16页 |
| 1.4.2 影响TiO_2超亲水性的因素 | 第16-17页 |
| 1.4.3 TiO_2超亲水性的改进方法 | 第17-19页 |
| 1.4.4 TiO_2的超亲水性的应用 | 第19-21页 |
| 1.5 本课题的研究内容及意义 | 第21-23页 |
| 第2章 薄膜制备手段及表征方法 | 第23-39页 |
| 2.1 薄膜制备原理 | 第23-29页 |
| 2.1.1 溅射原理 | 第23-24页 |
| 2.1.2 溅射成膜过程 | 第24-25页 |
| 2.1.3 溅射薄膜的特点 | 第25-26页 |
| 2.1.4 溅射类型 | 第26-29页 |
| 2.2 薄膜制备 | 第29-31页 |
| 2.2.1 薄膜制备设备简介 | 第29-30页 |
| 2.2.2 基片的预处理 | 第30-31页 |
| 2.2.3 薄膜制备的工艺流程 | 第31页 |
| 2.3 薄膜性能表征 | 第31-39页 |
| 2.3.1 XRD物相分析 | 第32-33页 |
| 2.3.2 吸光度分析 | 第33-34页 |
| 2.3.3 薄膜亲水性分析 | 第34页 |
| 2.3.4 薄膜表面形貌分析 | 第34-35页 |
| 2.3.5 扫描电子显微镜(SEM) | 第35-36页 |
| 2.3.6 X射线光电子能谱分析 | 第36-39页 |
| 第3章 N掺杂TiO_2薄膜的制备和性能分析 | 第39-49页 |
| 3.1 N掺杂TiO_2薄膜的制备 | 第39-41页 |
| 3.1.1 样品制备的基本条件 | 第39-40页 |
| 3.1.2 N掺杂TiO_2薄膜制备条件讨论 | 第40-41页 |
| 3.2 N掺杂TiO_2薄膜的结构分析 | 第41-43页 |
| 3.3 N掺杂TiO_2薄膜的吸光特性分析 | 第43-46页 |
| 3.4 N掺杂TiO_2薄膜的表面形貌分析 | 第46-49页 |
| 第4章 Ta、N双掺TiO_2薄膜的制备和性能分析 | 第49-65页 |
| 4.1 Ta、N掺杂TiO_2薄膜的制备 | 第49-50页 |
| 4.1.1 样品制备的基本条件 | 第49-50页 |
| 4.1.2 样品溅射条件 | 第50页 |
| 4.2 Ta、N掺杂TiO_2薄膜的结构分析 | 第50-52页 |
| 4.3 Ta、N掺杂TiO_2薄膜的光电子能谱分析 | 第52-56页 |
| 4.4 Ta、N掺杂TiO_2薄膜的吸光特性分析 | 第56-59页 |
| 4.5 Ta、N掺杂TiO_2薄膜的表面形貌分析 | 第59-61页 |
| 4.6 Ta、N掺杂TiO_2薄膜的亲水性分析 | 第61-62页 |
| 4.7 SiO_2预镀层的制备及其影响 | 第62-65页 |
| 第5章 结论 | 第65-67页 |
| 参考文献 | 第67-71页 |
| 致谢 | 第71页 |