| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-20页 |
| 1.1 研究背景及意义 | 第10-12页 |
| 1.1.1 电火工品研究背景及意义 | 第10页 |
| 1.1.2 含能薄膜研究背景及意义 | 第10-12页 |
| 1.2 国内外研究现状和发展态势 | 第12-18页 |
| 1.2.1 金属/金属型的多层含能薄膜 | 第12-15页 |
| 1.2.2 金属/金属氧化物型多层含能薄膜 | 第15-18页 |
| 1.3 选题依据 | 第18-19页 |
| 1.4 研究内容 | 第19-20页 |
| 第二章 实验方法与原理 | 第20-31页 |
| 2.1 溅射镀膜技术 | 第20-23页 |
| 2.1.1 磁控溅射原理 | 第20-21页 |
| 2.1.2 直流磁控溅射法 | 第21-22页 |
| 2.1.3 反应溅射 | 第22-23页 |
| 2.1.4 磁控溅射镀膜设备介绍 | 第23页 |
| 2.2 薄膜及器件表征方法 | 第23-31页 |
| 2.2.1 X射线衍射仪 | 第23-25页 |
| 2.2.2 扫描电子显微镜 | 第25-26页 |
| 2.2.3 X射线光电子能谱分析 | 第26-27页 |
| 2.2.4 薄膜材料热学性能超快测量系统 | 第27-28页 |
| 2.2.5 差示扫描量热法 | 第28-29页 |
| 2.2.6 电爆性能测试电路 | 第29-31页 |
| 第三章 Al、NiO单层薄膜制备工艺研究 | 第31-43页 |
| 3.1 Al、NiO薄膜制备工艺条件 | 第31-33页 |
| 3.1.1 实验材料 | 第31-32页 |
| 3.1.2 实验流程 | 第32-33页 |
| 3.2 单层Al薄膜制备与表征 | 第33-36页 |
| 3.2.1 实验参数 | 第33页 |
| 3.2.2 单层Al薄膜表征 | 第33-36页 |
| 3.3 单层NiO膜制备与表征 | 第36-42页 |
| 3.3.1 不同氧分压下NiO薄膜沉积速率 | 第36页 |
| 3.3.2 不同氧分压下NiO薄膜的晶相结构 | 第36-37页 |
| 3.3.3 不同氧分压下NiO薄膜的电阻率 | 第37-38页 |
| 3.3.4 用于多层含能薄膜的单层NiO薄膜制备工艺 | 第38-39页 |
| 3.3.5 单层NiO薄膜表征 | 第39-42页 |
| 3.4 本章小结 | 第42-43页 |
| 第四章 Al/NiO多层含能薄膜的制备与表征 | 第43-56页 |
| 4.1 Al/NiO多层薄膜的制备 | 第43-44页 |
| 4.2 Al/NiO多层薄膜的表征 | 第44-54页 |
| 4.2.1 Al/NiO多层薄膜结构测试 | 第44-45页 |
| 4.2.2 Al/NiO多层断面形貌分析 | 第45-46页 |
| 4.2.3 Al/NiO多层薄膜表面形貌及元素分析 | 第46-48页 |
| 4.2.4 Al/NiO多层薄膜界面反应机制分析 | 第48-52页 |
| 4.2.5 Al/NiO多层薄膜导热性能表征 | 第52-54页 |
| 4.2.6 Al/NiO多层薄膜放热性能表征 | 第54页 |
| 4.3 本章小结 | 第54-56页 |
| 第五章 (Al/NiO)_n/Cr点火器制备及性能研究 | 第56-64页 |
| 5.1 (Al/NiO)_n/Cr点火器的制备 | 第56-58页 |
| 5.2 (Al/NiO)_n/Cr点火器点火性能测试 | 第58-63页 |
| 5.2.1 (Al/NiO)_n/Cr点火器伏安特性曲线 | 第59-60页 |
| 5.2.2 (Al/NiO)_n/Cr点火器点火过程测试 | 第60-62页 |
| 5.2.3 (Al/NiO)_n/Cr点火器点火后成分测试 | 第62-63页 |
| 5.3 本章小结 | 第63-64页 |
| 第六章 结论与展望 | 第64-66页 |
| 6.1 结论 | 第64页 |
| 6.2 展望 | 第64-66页 |
| 致谢 | 第66-67页 |
| 参考文献 | 第67-72页 |
| 攻读硕士期间取得的研究成果 | 第72-73页 |
