| 中文摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4-5页 |
| 第一章 引言 | 第8-26页 |
| 1.1 可见光催化有机合成 | 第8-12页 |
| 1.1.1 光催化有机合成的研究背景 | 第9页 |
| 1.1.2 染料光催化剂在有机合成中的应用 | 第9-10页 |
| 1.1.3 金属络合物光催化剂在有机合成中的应用 | 第10-12页 |
| 1.1.4 半导体光催化剂在有机合成中的应用 | 第12页 |
| 1.2 超强碱体系促进的有机反应 | 第12-16页 |
| 1.2.1 超强碱的基本概念 | 第12-14页 |
| 1.2.2 超强碱体系在有机合成中的应用 | 第14-16页 |
| 1.3 苯并噻吩衍生物 | 第16-19页 |
| 1.3.1 苯并噻吩衍生物在在医药领域的应用 | 第16-18页 |
| 1.3.2 苯并噻吩衍生物在在染料、农药及新型材料领域的应用 | 第18-19页 |
| 1.4 羰基化反应及其实现途径 | 第19-23页 |
| 1.5 立题依据与研究内容 | 第23-26页 |
| 第二章 实验部分 | 第26-31页 |
| 2.1 试剂和仪器设备 | 第26-28页 |
| 2.1.1 主要试剂 | 第26-28页 |
| 2.1.2 实验仪器 | 第28页 |
| 2.2 实验方法 | 第28-31页 |
| 2.2.1 苯并噻吩衍生物的合成 | 第28-29页 |
| 2.2.1.1 苯并噻吩衍生物的合成方法 | 第28-29页 |
| 2.2.1.2 苯并噻吩衍生物的提纯和定量方法 | 第29页 |
| 2.2.2 羰基化反应合成芳香酯 | 第29-31页 |
| 2.2.2.1 Bu~tOK/1,10-邻菲啰啉体系与CO | 第29-30页 |
| 2.2.2.2 Bu~tOK/DMSO体系与Mo(CO)_6 | 第30-31页 |
| 第三章 可见光下KOH/DMSO促进的2-苯基苯并噻吩衍生物的合成 | 第31-74页 |
| 3.1 引言 | 第31-35页 |
| 3.1.1 苯并噻吩环的直接官能团修饰 | 第31-32页 |
| 3.1.2 分子内亲电环化反应合成苯并噻吩衍生物 | 第32-34页 |
| 3.1.3 引入简单无机或有机硫源合成苯并噻吩衍生物 | 第34-35页 |
| 3.2 实验思路及可行性分析 | 第35-40页 |
| 3.3 2-苯基苯并[b]噻吩的合成和不同反应参数对其反应的影响规律 | 第40-49页 |
| 3.3.1 激发光源波长和光强与2-苯基苯并[b]噻吩生成规律的关联关系 | 第41-43页 |
| 3.3.2 溶剂环境和碱类型对2-苯基苯并[b]噻吩合成的影响 | 第43-45页 |
| 3.3.3 底物用量对2-苯基苯并[b]噻吩合成的影响 | 第45-46页 |
| 3.3.4 反应时间对反应行为的影响规律 | 第46-48页 |
| 3.3.5 热催化模式合成2-苯基苯并[b]噻吩 | 第48-49页 |
| 3.4 不同结构苯并噻吩衍生物的合成 | 第49-52页 |
| 3.5 反应机理探讨 | 第52-55页 |
| 3.6 本章小结 | 第55-56页 |
| 3.7 苯并噻吩衍生物的~1H NMR和~(13)C NMR谱图表征 | 第56-67页 |
| 3.8 反应体系的GC-MS谱图 | 第67-74页 |
| 第四章 可见光下Bu~tOK促进卤代芳烃的羰基化反应 | 第74-82页 |
| 4.1 引言 | 第74-76页 |
| 4.2 不同反应参数对羰基化反应的影响规律 | 第76-80页 |
| 4.2.1 Bu~tOK/1,10-邻菲啰啉体系促进的CO羰基化反应 | 第76-78页 |
| 4.2.2 基于Mo(CO)6作为羰基源Bu~tOK/DMSO促进的羰基化反应 | 第78-80页 |
| 4.3 本章小结 | 第80-81页 |
| 4.4 GC-MS谱图 | 第81-82页 |
| 结论与展望 | 第82-85页 |
| 参考文献 | 第85-90页 |
| 致谢 | 第90-91页 |
| 个人简历 | 第91页 |
| 发表及待发表文章目录 | 第91页 |
