摘要 | 第2-3页 |
abstract | 第3页 |
引言 | 第5-6页 |
第一部分 半导体激光根管治疗的牙根表面温度变化 | 第6-20页 |
1 材料与方法 | 第6-10页 |
1.1 实验材料与仪器 | 第6-8页 |
1.2 实验方法 | 第8-10页 |
2 结果 | 第10-18页 |
2.1 激光照射前后的温度变化 | 第10-13页 |
2.2 温度变化的统计学分析 | 第13-18页 |
3 讨论 | 第18-20页 |
第二部分 半导体激光根管治疗的根管壁形态学研究 | 第20-35页 |
1 材料与方法 | 第20-24页 |
1.1 实验材料与仪器 | 第20-22页 |
1.2 实验方法 | 第22-24页 |
2 结果 | 第24-33页 |
2.1 各组暴露的牙本质小管口面积与牙本质表面积的比值 | 第27-28页 |
2.2 牙本质小管口面积与牙本质表面积比值的统计学分析 | 第28-33页 |
3 讨论 | 第33-35页 |
结论 | 第35-36页 |
参考文献 | 第36-38页 |
综述 | 第38-50页 |
综述文献 | 第47-50页 |
攻读学位期间的研究成果 | 第50-51页 |
致谢 | 第51-52页 |