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半导体激光根管治疗的根管壁形态学及温度变化的研究

摘要第2-3页
abstract第3页
引言第5-6页
第一部分 半导体激光根管治疗的牙根表面温度变化第6-20页
    1 材料与方法第6-10页
        1.1 实验材料与仪器第6-8页
        1.2 实验方法第8-10页
    2 结果第10-18页
        2.1 激光照射前后的温度变化第10-13页
        2.2 温度变化的统计学分析第13-18页
    3 讨论第18-20页
第二部分 半导体激光根管治疗的根管壁形态学研究第20-35页
    1 材料与方法第20-24页
        1.1 实验材料与仪器第20-22页
        1.2 实验方法第22-24页
    2 结果第24-33页
        2.1 各组暴露的牙本质小管口面积与牙本质表面积的比值第27-28页
        2.2 牙本质小管口面积与牙本质表面积比值的统计学分析第28-33页
    3 讨论第33-35页
结论第35-36页
参考文献第36-38页
综述第38-50页
    综述文献第47-50页
攻读学位期间的研究成果第50-51页
致谢第51-52页

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