中文摘要 | 第3-5页 |
英文摘要 | 第5-6页 |
主要符号表 | 第7-10页 |
1 绪论 | 第10-20页 |
1.1 引言 | 第10-11页 |
1.2 ADP晶体的研究现状 | 第11-14页 |
1.2.1 ADP晶体简介 | 第11-12页 |
1.2.2 ADP晶体生长的研究现状 | 第12-14页 |
1.3 薄表面层生长的研究意义及现状 | 第14-18页 |
1.3.1 薄表面层生长的研究意义 | 第14-16页 |
1.3.2 薄表面层生长的研究现状 | 第16-18页 |
1.4 本课题研究的内容及特色 | 第18-20页 |
2 ADP晶体的生长 | 第20-34页 |
2.1 引言 | 第20页 |
2.2 相变的理论基础 | 第20-24页 |
2.2.1 相变发生的热力学条件 | 第20-22页 |
2.2.2 相变驱动力 | 第22-23页 |
2.2.3 成核的基本类型 | 第23-24页 |
2.3 ADP溶液溶解度曲线的测定 | 第24-27页 |
2.3.1 实验原料及仪器 | 第25页 |
2.3.2 实验步骤 | 第25-26页 |
2.3.3 实验结果与讨论 | 第26-27页 |
2.4 ADP晶体生长实验 | 第27-33页 |
2.4.1 籽晶的制备及选取 | 第27-29页 |
2.4.2 ADP晶体生长的实验装置及步骤 | 第29-31页 |
2.4.3 籽晶对ADP晶体生长的影响 | 第31-33页 |
2.5 本章小结 | 第33-34页 |
3 ADP晶体薄表面层生长特性研究 | 第34-54页 |
3.1 引言 | 第34页 |
3.2 凹角对ADP晶体薄表面层生长的影响 | 第34-44页 |
3.2.1 实验设备 | 第34-36页 |
3.2.2 实验方法及步骤 | 第36-37页 |
3.2.3 结果及讨论 | 第37-44页 |
3.3 棱角对ADP晶体薄表面层生长的影响 | 第44-48页 |
3.3.1 缺失一条棱边的ADP晶体Z切片薄表面层生长特性 | 第44-46页 |
3.3.2 缺失相交角的ADP晶体Z切片薄表面层生长特性 | 第46-47页 |
3.3.3 无正常棱角的ADP晶体Z切片薄表面层生长特性 | 第47-48页 |
3.4 显微实时观察ADP晶体薄表面层生长特性 | 第48-53页 |
3.4.1 实验设备及方法 | 第48-49页 |
3.4.2 ADP晶体薄表面层显微形态 | 第49-50页 |
3.4.3 棱角处薄表面层生长显微实时观察 | 第50-53页 |
3.5 本章小结 | 第53-54页 |
4 ADP晶体薄表面层生长动力学研究 | 第54-60页 |
4.1 引言 | 第54-55页 |
4.2 溶液过饱和度对薄表面层生长动力学的影响 | 第55-57页 |
4.2.1 实验方法及步骤 | 第55页 |
4.2.2 结果与讨论 | 第55-57页 |
4.3 棱角对薄表面层生长动力学的影响 | 第57-58页 |
4.3.1 实验方法及步骤 | 第57页 |
4.3.2 结果与讨论 | 第57-58页 |
4.4 本章小结 | 第58-60页 |
5 结论与展望 | 第60-62页 |
5.1 主要结论 | 第60-61页 |
5.2 课题展望 | 第61-62页 |
致谢 | 第62-64页 |
参考文献 | 第64-68页 |
附录 | 第68页 |
A. 作者在攻读硕士学位期间完成的学术论文 | 第68页 |
B. 作者在攻读硕士学位期间参加的科研项目 | 第68页 |