应用于声表面波标签的正交频率及其衍生编码的研究
| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第9-15页 |
| 1.1 射频识别技术的介绍 | 第9-10页 |
| 1.2 声表面波射频标签的介绍 | 第10-14页 |
| 1.2.1 声表面波射频标签系统工作原理 | 第11-12页 |
| 1.2.2 声表面波标签发展现状 | 第12-13页 |
| 1.2.3 声表面波射频标签优势及意义 | 第13-14页 |
| 1.3 论文内容及编排 | 第14-15页 |
| 第二章 表面波理论及基础 | 第15-20页 |
| 2.1 压电材料及效应 | 第15-16页 |
| 2.2 压电材料系数矩阵 | 第16-17页 |
| 2.3 晶体晶向的旋转 | 第17-19页 |
| 2.4 本章小结 | 第19-20页 |
| 第三章 声表面波器件模型 | 第20-35页 |
| 3.1 叉指换能器及反射栅结构 | 第20-23页 |
| 3.1.1 叉指换能器 | 第20-22页 |
| 3.1.2 金属反射栅 | 第22-23页 |
| 3.2 d函数模型 | 第23-25页 |
| 3.3 耦合模（COM）模型 | 第25-30页 |
| 3.3.1 表面波二阶效应 | 第25-28页 |
| 3.3.2 均匀IDT的COM方程 | 第28-30页 |
| 3.4 P矩阵模型 | 第30-34页 |
| 3.4.1 声表面波叉指换能器的P矩阵模型 | 第30-31页 |
| 3.4.2 P矩阵的级联 | 第31-34页 |
| 3.5 本章小结 | 第34-35页 |
| 第四章 OFC及其衍生编码技术 | 第35-42页 |
| 4.1 OFC理论及系统 | 第35-37页 |
| 4.2 POFC理论及系统 | 第37-39页 |
| 4.3 Mix-OFC理论及系统 | 第39-41页 |
| 4.4 本章小结 | 第41-42页 |
| 第五章 基于P矩阵的OFC及其衍生系统分析 | 第42-61页 |
| 5.1 OFC系统模型结构的设计 | 第42-43页 |
| 5.2 介质材料参数选取 | 第43-44页 |
| 5.3 二阶效应及P矩阵模型分析 | 第44-54页 |
| 5.3.1 IDT参数计算及其P矩阵模型 | 第44-46页 |
| 5.3.2 反射栅参数计算及其P矩阵模型 | 第46-50页 |
| 5.3.3 标签P矩阵模型分析 | 第50-54页 |
| 5.4 基于P矩阵模型的POFC系统S因子分析 | 第54-60页 |
| 5.4.1 互相关函数计算 | 第54-56页 |
| 5.4.2 S因子优化标准 | 第56页 |
| 5.4.3 相关区域拟合函数计算 | 第56-58页 |
| 5.4.4 系统时序分析 | 第58-60页 |
| 5.5 本章小结 | 第60-61页 |
| 第六章 基于有限元分析的设计和仿真 | 第61-71页 |
| 6.1 IDT中心频率 | 第61-65页 |
| 6.2 反射栅中心频率 | 第65-68页 |
| 6.3 OFC系统的有限元仿真 | 第68-70页 |
| 6.4 本章小结 | 第70-71页 |
| 第七章 总结与展望 | 第71-73页 |
| 7.1 总结 | 第71-72页 |
| 7.2 展望 | 第72-73页 |
| 参考文献 | 第73-77页 |
| 发表论文和参加科研情况说明 | 第77-78页 |
| 致谢 | 第78-79页 |
