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亚微米级MOSFET器件模型分析及BSIM模型参数提取

摘要第5-6页
Abstract第6-7页
第1章 绪论第10-14页
    1.1 课题背景及研究意义第10-11页
    1.2 MOSFET电势模型的研究概况第11-13页
    1.3 论文的主要工作第13-14页
第2章 伯克利短沟阈值电压模型和电压-掺杂转换模型第14-23页
    2.1 伯克利短沟阈值电压模型第14-18页
    2.2 电压-掺杂转换模型第18-22页
        2.2.1 电压与掺杂浓度的转换第18-20页
        2.2.2 耗尽层厚度的计算第20-22页
    2.3 本章小结第22-23页
第3章 MOSFET二维电势模型第23-32页
    3.1 二维单区电势模型第24-26页
    3.2 二维双区电势模型第26-29页
    3.3 伯克利短沟阈值电压模型的二维拓展第29-31页
    3.4 本章小结第31-32页
第4章 MOSFET模型的精准性比较第32-44页
    4.1 特征函数展开项数的影响第32-33页
    4.2 平均误差第33-34页
    4.3 单区和双区电势模型的比较第34-37页
        4.3.1 源漏边界条件的偏差分析第34-36页
        4.3.2 SCE与DIBL效应下阈值电压的计算第36-37页
    4.4 模型精确度的比较与分析第37-43页
        4.4.1 模型误差的比较第37-40页
        4.4.2 基于亚阈值斜率的模型比较第40-43页
    4.5 本章小结第43-44页
第5章 BSIM模型参数的提取转换第44-53页
    5.1 BSIM模型的发展及特点第44-45页
    5.2 基因算法的应用第45-48页
    5.3 参数的提取转换第48-51页
    5.4 本章小结第51-53页
第6章 结论与展望第53-55页
    6.1 结论第53页
    6.2 展望第53-55页
参考文献第55-59页
攻读硕士学位期间发表的论文及其他成果第59-60页
致谢第60页

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