| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-16页 |
| ·引言 | 第8页 |
| ·ZnO的晶体结构及基本性质 | 第8-11页 |
| ·ZnO的能带结构 | 第11页 |
| ·ZnO薄膜的掺杂特性研究 | 第11-13页 |
| ·化合价 | 第12页 |
| ·离子半径 | 第12-13页 |
| ·电负性 | 第13页 |
| ·氧化态 | 第13页 |
| ·离子外层电子结构 | 第13页 |
| ·ZnO薄膜的主要应用 | 第13-15页 |
| ·作为光伏电池的透明电极 | 第13-14页 |
| ·在发光器件方面的应用 | 第14页 |
| ·作为衬底或缓冲层 | 第14页 |
| ·在压电方面的应用 | 第14页 |
| ·在压敏方面的应用 | 第14-15页 |
| ·在气敏方面的应用 | 第15页 |
| ·本课题的提出与论文结构 | 第15-16页 |
| 第二章 ZnO基薄膜的制备技术与表征手段 | 第16-22页 |
| ·ZnO基薄膜的制备技术 | 第16-18页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第16-17页 |
| ·磁控溅射法 | 第17-18页 |
| ·ZnO基薄膜的表征手段 | 第18-22页 |
| ·X射线衍射(XRD) | 第18-19页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM) | 第19-20页 |
| ·紫外-可见分光光度计(UV-VIS) | 第20页 |
| ·光致发光(PL)光谱 | 第20页 |
| ·四探针法 | 第20-22页 |
| 第三章 溶胶-凝胶法制备Sn掺杂ZnO薄膜及其性能研究 | 第22-35页 |
| ·溶胶-凝胶法制备Sn掺杂ZnO薄膜的工艺 | 第22-24页 |
| ·溶胶的制备 | 第22-23页 |
| ·衬底基片的处理 | 第23页 |
| ·旋涂镀膜工艺 | 第23-24页 |
| ·热处理 | 第24页 |
| ·不同工艺条件对Sn掺杂ZnO薄膜性能的影响 | 第24-34页 |
| ·热处理温度对ZnO：Sn薄膜性能的影响 | 第24-29页 |
| ·热处理温度对ZnO：Sn薄膜结晶性能的影响 | 第25-27页 |
| ·热处理温度对ZnO：Sn薄膜表面形貌的影响 | 第27-28页 |
| ·热处理温度对ZnO：Sn薄膜光学性能的影响 | 第28-29页 |
| ·热处理温度对ZnO：Sn薄膜电学性能的影响 | 第29页 |
| ·掺杂浓度对ZnO：Sn薄膜性能的影响 | 第29-34页 |
| ·掺杂浓度对ZnO：Sn薄膜结晶性能的影响 | 第30-31页 |
| ·掺杂浓度对ZnO：Sn薄膜表面形貌的影响 | 第31-32页 |
| ·掺杂浓度对ZnO：Sn薄膜光学性能的影响 | 第32-33页 |
| ·掺杂浓度对ZnO：Sn薄膜电学性能的影响 | 第33-34页 |
| ·小结 | 第34-35页 |
| 第四章 磁控溅射法制备Li-W共掺ZnO薄膜及其性能研究 | 第35-57页 |
| ·磁控溅射法制备Li-W共掺ZnO薄膜的工艺 | 第35-38页 |
| ·磁控溅射镀膜设备 | 第35-36页 |
| ·磁控溅射镀膜工艺流程 | 第36-38页 |
| ·不同工艺条件对Li-W共掺ZnO薄膜性能的影响 | 第38-51页 |
| ·衬底温度对LWZO薄膜性能的影响 | 第38-45页 |
| ·衬底温度对LWZO薄膜结晶性能的影响 | 第38-40页 |
| ·衬底温度对LWZO薄膜表面形貌的影响 | 第40-42页 |
| ·衬底温度对LWZO薄膜光学性能的影响 | 第42-45页 |
| ·衬底温度对LWZO薄膜电学性能的影响 | 第45页 |
| ·溅射气压对LWZO薄膜性能的影响 | 第45-51页 |
| ·溅射气压对LWZO薄膜结晶性能的影响 | 第46-48页 |
| ·溅射气压对LWZO薄膜表面形貌的影响 | 第48-50页 |
| ·溅射气压对LWZO薄膜光学性能的影响 | 第50页 |
| ·溅射气压对LWZO薄膜电学性能的影响 | 第50-51页 |
| ·氢化处理对Li-W共掺ZnO薄膜性能的影响 | 第51-55页 |
| ·氢化处理对LWZO薄膜结晶性能的影响 | 第51-53页 |
| ·氢化处理对LWZO薄膜表面形貌的影响 | 第53页 |
| ·氢化处理对LWZO薄膜光学性能的影响 | 第53-54页 |
| ·氢化处理对LWZO薄膜电学性能的影响 | 第54-55页 |
| ·小结 | 第55-57页 |
| 第五章 总结 | 第57-59页 |
| 致谢 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-64页 |
| 附录：攻读硕士学位期间所取得的科研成果 | 第64页 |