| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-16页 |
| ·透明导电膜的概述 | 第8-10页 |
| ·AZO透明导电膜 | 第10-12页 |
| ·AZO的晶体结构 | 第10-11页 |
| ·AZO的电学特性 | 第11-12页 |
| ·AZO的光学特性 | 第12页 |
| ·AZO透明导电膜的应用 | 第12-14页 |
| ·透明电极 | 第12-13页 |
| ·电磁屏蔽和防静电膜 | 第13页 |
| ·面发热膜 | 第13-14页 |
| ·电致变色窗 | 第14页 |
| ·触摸屏 | 第14页 |
| ·氢掺杂对AZO薄膜性能的影响 | 第14页 |
| ·本论文的主要研究内容和结构安排 | 第14-16页 |
| 第二章 透明导电薄膜的制备方法与检测手段 | 第16-27页 |
| ·AZO薄膜的主要制备方法 | 第16-22页 |
| ·磁控溅射法 | 第16-18页 |
| ·化学气相沉积法 | 第18-19页 |
| ·分子束外延法 | 第19页 |
| ·脉冲激光沉积法 | 第19-20页 |
| ·喷雾热分解法 | 第20-21页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第21-22页 |
| ·薄膜样品结构和光电性能的表征手段 | 第22-27页 |
| ·X射线衍射(XRD) | 第22-23页 |
| ·傅立叶红外吸收(FTIR)光谱 | 第23-24页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM) | 第24-25页 |
| ·四探针法 | 第25-26页 |
| ·紫外-可见分光光度计 | 第26-27页 |
| 第三章 AZO薄膜结构、光学以及电学性能的分析 | 第27-43页 |
| ·实验部分 | 第27-29页 |
| ·玻璃基片的清洗 | 第27页 |
| ·磁控溅射设备 | 第27-29页 |
| ·工艺参数对AZO薄膜性能的影响 | 第29-41页 |
| ·溅射功率对AZO薄膜性能的影响 | 第29-33页 |
| ·溅射气压对AZO薄膜性能的影响 | 第33-37页 |
| ·衬底温度对AZO薄膜性能的影响 | 第37-41页 |
| ·总结 | 第41-43页 |
| 第四章 AZO：H薄膜结构、光学以及电学性能的分析 | 第43-54页 |
| ·H_2掺杂量对AZO薄膜性能的影响 | 第43-46页 |
| ·衬底温度对AZO：H薄膜性能的影响 | 第46-49页 |
| ·AZO：H薄膜的表面形貌分析 | 第49-52页 |
| ·AZO：H薄膜的傅立叶转换红外(FTIR)光谱分析 | 第52-53页 |
| ·结论 | 第53-54页 |
| 第五章 总结 | 第54-56页 |
| 致谢 | 第56-57页 |
| 参考文献 | 第57-61页 |
| 附录 | 第61页 |