HLS Ⅱ束流横向截面测量系统的研制及相关研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-8页 |
| 目录 | 第8-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-26页 |
| ·研究背景及意义 | 第10-12页 |
| ·国内外研究现状 | 第12-23页 |
| ·同步光成像法 | 第12-19页 |
| ·同步光干涉法 | 第19-22页 |
| ·同步光投影法 | 第22-23页 |
| ·合肥光源原有的束流横向截面测量系统 | 第23-24页 |
| ·论文研究内容和创新 | 第24-26页 |
| 第二章 束流横向截面测量的相关理论研究与计算 | 第26-48页 |
| ·电子储存环中束流横向截面及发射度 | 第26-29页 |
| ·弯铁同步光传播成像 | 第29-40页 |
| ·相对论电子经弯铁的电磁辐射 | 第30-34页 |
| ·同步辐射光聚焦成像 | 第34-40页 |
| ·同步光双缝干涉 | 第40-48页 |
| ·同步光双缝干涉图样 | 第42-46页 |
| ·干涉法测量束流横向尺寸原理 | 第46-48页 |
| 第三章 HLS Ⅱ束流测量光束线的设计 | 第48-86页 |
| ·合肥光源重大维修改造项目 | 第48-51页 |
| ·同步光引出设计 | 第51-55页 |
| ·束流测量光束线的光学系统设计 | 第55-71页 |
| ·同步光成像光学系统 | 第57-64页 |
| ·同步光干涉光学系统 | 第64-71页 |
| ·同步光干涉仪参数的优化 | 第71-80页 |
| ·束流横向截面测量系统影响因素分析 | 第80-86页 |
| ·同步光成像法测量系统影响因素分析 | 第80页 |
| ·干涉法测量系统的影响因素分析 | 第80-86页 |
| 第四章 数据采集及处理系统的研制 | 第86-116页 |
| ·工业相机的选择 | 第86-92页 |
| ·系统结构 | 第92-96页 |
| ·图像数据采集处理应用程序 | 第96-111页 |
| ·程序开发工具 | 第96-97页 |
| ·应用程序框架 | 第97-99页 |
| ·数据处理 | 第99-107页 |
| ·测量结果的发布 | 第107-110页 |
| ·程序界面 | 第110-111页 |
| ·系统噪声分析 | 第111-116页 |
| 第五章 束流横向截面测量的相关实验及研究 | 第116-134页 |
| ·HLS上束流横向截面的测量 | 第116-123页 |
| ·光学成像系统标定 | 第117-119页 |
| ·束流横向尺寸及发射度测量 | 第119-123页 |
| ·束流横向截面图像分辨率的提高 | 第123-129页 |
| ·基于统计学方法的束流横向截面图像复原算法 | 第125-126页 |
| ·束流横向截面成像系统点扩散函数的建模 | 第126-127页 |
| ·HLS束流横向截面成像的复原处理 | 第127-129页 |
| ·同步光干涉光学系统标定 | 第129-132页 |
| ·干涉法测量色散函数 | 第132-134页 |
| 第六章 总结和展望 | 第134-136页 |
| ·总结 | 第134-135页 |
| ·展望 | 第135-136页 |
| 参考文献 | 第136-142页 |
| 致谢 | 第142-144页 |
| 在读期间发表的学术论文及参与科研情况 | 第144-145页 |
