用于超光滑表面的多光束干涉显微测头的研究
| 摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACT | 第7-9页 |
| 致谢 | 第9-14页 |
| 第一章 绪论 | 第14-23页 |
| ·课题研究的目的和意义 | 第14-15页 |
| ·国内外技术水平现状 | 第15-18页 |
| ·接触式测量法 | 第15-16页 |
| ·非接触式测量法 | 第16-18页 |
| ·常用的干涉和共焦测量方法 | 第18-22页 |
| ·本论文主要研究内容 | 第22-23页 |
| 第二章 多光束干涉显微系统的构成及基本光学原理 | 第23-37页 |
| ·多光束干涉的基本理论 | 第23-26页 |
| ·从薄膜干涉到多光束干涉 | 第23-24页 |
| ·多光束干涉的光强分布 | 第24-26页 |
| ·多光束干涉显微测头的光学系统设计思想 | 第26-27页 |
| ·偏振光的特性及波片的作用 | 第27-30页 |
| ·共焦显微的基本理论 | 第30-36页 |
| ·薄透镜成像的三维点扩散函数 | 第30-34页 |
| ·反射式共焦显微系统的想干成像公式 | 第34-36页 |
| 本章小结 | 第36-37页 |
| 第三章 光学参数及机械系统设计 | 第37-49页 |
| ·光学差动原理及反射平板反射率设计 | 第37-40页 |
| ·共焦多光束干涉的光强分布 | 第40-42页 |
| ·共焦显微的光强分布 | 第40-41页 |
| ·P 光干涉的光强分布曲线 | 第41页 |
| ·S 光干涉光强分布 | 第41-42页 |
| ·S 光干涉光强分布的修正 | 第42页 |
| ·针孔直径、入射光束直径与光程的关系 | 第42-46页 |
| ·机械结构设计 | 第46-48页 |
| 本章小结 | 第48-49页 |
| 第四章 信号处理电路设计 | 第49-58页 |
| ·光电转换 | 第49-51页 |
| ·信号调理电路 | 第51-53页 |
| ·滤波电路设计 | 第53-57页 |
| 本章小结 | 第57-58页 |
| 第五章 实验验证与分析 | 第58-67页 |
| ·共焦多光束干涉曲线验证 | 第59-60页 |
| ·P 光、S 光干涉信号相位差测试 | 第60-62页 |
| ·轴向分辨力测试 | 第62-64页 |
| ·PI 压电陶瓷的 0.1nm 位移的标定 | 第64-65页 |
| 本章小结 | 第65-67页 |
| 第六章 总结与展望 | 第67-69页 |
| 参考文献 | 第69-72页 |
| 攻读硕士期间发表的论文 | 第72-73页 |
