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In2O3基透明导电薄膜的制备及特性研究

摘要第1-3页
Abstract第3-5页
中文文摘第5-8页
第1章 绪论第8-16页
   ·前言第8页
   ·ITO薄膜的基本性质第8-10页
   ·ITO薄膜的发展和研究现状第10-13页
   ·ITO薄膜的应用第13-14页
   ·本论文的研究内容第14-16页
第2章 利用全部透射光谱数据计算薄膜的光学常数和厚度第16-27页
   ·引言第16页
   ·计算方法第16-18页
   ·实验与测量第18-20页
   ·结果与讨论第20-26页
   ·本章小结第26-27页
第3章 从透射光谱计算 ITO薄膜的光学常数和厚度的新方法第27-37页
   ·引言第27-28页
   ·实验过程第28页
   ·光学模型第28-30页
   ·结果与讨论第30-36页
   ·本章小结第36-37页
第4章 氮气中退火对直流磁控溅射ITO薄膜性质的影响第37-44页
   ·引言第37页
   ·实验过程第37-38页
   ·结果与讨论第38-43页
   ·本章小结第43-44页
第5章 掺钛氧化铟透明导电薄膜的制备及其特性的初步研究第44-51页
   ·引言第44-45页
   ·实验过程第45页
   ·结果与讨论第45-50页
   ·本章小结第50-51页
结论第51-53页
参考文献第53-60页
攻读学位期间承担的科研任务与主要成果第60-61页
致谢第61-62页
个人简历第62-63页

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