| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-7页 |
| 1 绪论 | 第7-19页 |
| ·CIS 太阳能电池的发展历史及研究现状 | 第7-11页 |
| ·离子辅助镀膜(IAD)工艺的概况及研究现状 | 第11-17页 |
| ·CIS 太阳能电池的基本结构 | 第17-18页 |
| ·本文的研究内容和意义 | 第18-19页 |
| 2 硫化镉 (CdS) 缓冲层 IAD 工艺研究 | 第19-36页 |
| ·离子辅助镀膜原理 | 第19-22页 |
| ·CdS 的传统制备方法 | 第22-24页 |
| ·硫化镉(CdS)缓冲层 IAD 工艺分析 | 第24-30页 |
| ·退火工艺 | 第30-34页 |
| ·小结 | 第34-36页 |
| 3 CIS 半导体结构机制分析 | 第36-50页 |
| ·CIS 半导体材料特性 | 第36-38页 |
| ·CIS 层工作原理 | 第38-44页 |
| ·CIS 基材料制备技术 | 第44-49页 |
| ·小结 | 第49-50页 |
| 4 全文总结 | 第50-51页 |
| 致谢 | 第51-52页 |
| 参考文献 | 第52-56页 |
| 附录1 攻读硕士学位期间发表论文目录 | 第56页 |